采用复合电沉积技术在AZ91镁合金表面制备Ni-SiO2纳米复合镀层,并研究各工艺参数对镀层的影响,从而得出最佳工艺.研究结果表明:在镀液中纳米SiO2的添加量为20 g/L,阴极电流密度为1.0 A/dm2,镀液温度为50℃,活性剂A的添加量为1.0 g/L,pH为5～6的条件下,经过20～30 min电沉积,可获得均匀、平滑的镀层,镀层的显微硬度与耐蚀性最佳.
参考文献
| [1] | 郑润芬,梁成浩.镁合金的腐蚀与表面氧化技术进展[J].轻合金加工技术,2005(09):12-15,52. |
| [2] | 李冠群,吴国华,樊昱,丁文江.镁合金的腐蚀研究现状与防护途径[J].材料导报,2005(11):60-64. |
| [3] | MORDIKE B L;EBERT T .Magnesium Properties-applications-potential[J].Materials Science and Engineering,2001,A302:37-45. |
| [4] | 屠振密;李宁;胡会利.电沉积纳米晶材料技术[M].北京:国防工业出版社,2008 |
| [5] | 曲彦平,李德高,孙泰礼.铝合金Ni-P-Al2O3复合镀前处理工艺和耐蚀耐磨损性能的研究[J].表面技术,2001(01):3-5. |
| [6] | 李卫东,朱军雄,胡进,左正忠,周运鸿,杨江成,吕志,刘仁志,王志军,陈伏珍.Ni-TiO2复合电镀工艺研究[J].表面技术,2002(02):32-35. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%