掺氮类金刚石薄膜激光退火的Raman光谱研究

功能材料, 2001, 32(5): 473-477.

掺氮类金刚石薄膜激光退火的Raman光谱研究

居建华 ^1, , 夏义本 ^2, , 张伟丽 ^3, , 王林军 ^4, , 史伟民 ^5, , 黄志明 ^6, , 李志锋 ^7, , 郑国珍 ^8, , 汤定元 ^9,

1.中国科学院上海技术物理研究所;上海大学材料科学与工程学院

2.中国科学院上海技术物理研究所;上海大学材料科学与工程学院

3.上海大学材料科学与工程学院,

4.上海大学材料科学与工程学院,

5.上海大学材料科学与工程学院,

6.中国科学院上海技术物理研究所

7.中国科学院上海技术物理研究所

8.中国科学院上海技术物理研究所

9.中国科学院上海技术物理研究所

关键词：类金刚石薄膜 , 激光退火 , 拉曼光谱 , 热稳定性

Raman analysis of laser annealed amorphous nitrogen doped carbon film

采用功率密度分别为300、750和1500W/mm2的氩离子激光器,对由射频等离子化学气相沉积(RF-CVD)法制备的掺氮类金刚石薄膜进行了激光退火处理.并用傅立叶红外吸收光谱和显微Raman等手段,对所得样品进行了研究.结果表明:C-N键比C-H键更为稳定,一方面氮原子的引入制约了C-H键的生成,在激光退火中减少了因C-H键分解而引起薄膜的石墨化;另一方面生成的C-N键不易受热分解;因此随着氮含量的增加,薄膜中C-N成分增加,从而提高了类金刚石薄膜的热稳定性.

参考文献

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[6]	Fanceschini D F;Achete C A;Freire Jr F L .[J].Applied Physics Letters,1992,60:3229.
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