等离子体表面处理对YBCO薄膜表面形貌的研究

功能材料, 2004, 35(z1): 1338-1340.

1.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022

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基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA306221)

Effect of high-density plasma annealing on YBCO film by MOD

采用自制的等离子表面处理装置对MOD法制得YBCO薄膜进行表面处理.我们通过控制等离子处理时间,辉光电流,处理温度以及退火的工艺流程,发现YBCO超导薄膜表面成分,表面形貌发生的明显的改变.这种简易快速的方法将对YBCO薄膜表面质量提高起到有效的作用.

[1]	王小平;杨秉川;石东奇 .低表面电阻的YBCO超导薄膜结构及其应用[J].稀有金属,1996,20(04):318-319.
[2]	王小平;杨秉川;石东奇 .用于微波器件的大面积YBCO超导薄膜[J].稀有金属,1994,18(06):402-403.
[3]	Lee J H et al.Significant improvements in the surface smoothness of YBCO films on high temperature annealed CeO2-buffered r-cut sapphire Supercond[J].Science Technology,2000,13:989-994.
[4]	Yamada I et al.A short review of ionized cluster beam technology, Nucl[J].Instrum Methods Phys Res,1995,B99:240-243.
[5]	杨邦朝;王文生.薄膜物理与技术[M].成都:电子科技大学,1993:109.
[6]	Inoue N;Nishikawa W;Yamamoto T et al.[J].Pergamon,1995,46:1381-1384.
[7]	Markwitz A;Kenndy V J;Short K.Plasma immersion nitrogen implantation into silicon and rapid thermal electron beam annealing for surface structuring[J].Current Applied Physics,2004(04):241-244.
[8]	Qiang Chen .[J].Journal of Electrostatics,2003,59:3-13.

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