电流密度和衬底处理方式对CaMoO4薄膜电化学制备的影响

功能材料, 2006, 37(12): 1951-1954.

电流密度和衬底处理方式对CaMoO4薄膜电化学制备的影响

毕剑 ^1, , 余萍 ^2, , 高道江 ^3, , 陈连平 ^4, , 杨祖念 ^5, , 肖定全 ^6,

1.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064;四川师范大学,化学与材料科学学院,四川,成都,610066

2.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064

3.四川师范大学,化学与材料科学学院,四川,成都,610066

4.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064

5.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064;四川教育学院,物理系,四川,成都,610041

6.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064

基金项目: 教育部霍英东教育基金会高等院校青年教师基金(94008) 国家自然科学基金(50410179) 国家自然科学基金(50372042)

关键词： CaMoO4薄膜 , 电化学技术 , 电流密度 , 衬底前处理方式

Influence of current density and pre-treatment of substrate on the preparation of CaMoO4 thin films by electrochemical technique

主要研究了利用恒电流电化学技术制备CaMoO4薄膜的工艺中,电流密度和衬底处理方式对薄膜制备的影响.研究发现,增大阳极氧化电流密度会加快薄膜的生长速度,但会加剧晶粒团簇生长的趋势、减弱薄膜与衬底的附着力和薄膜的均匀性;衬底的不同处理方式对薄膜晶粒的生长速度、沉积方式、均匀性等有较大的影响,在抛光衬底上薄膜的沉积速度比酸腐蚀和粗磨的衬底要快,且不易造成晶粒的团簇生长.结果表明,CaMoO4薄膜的电化学沉积,应在抛光衬底上进行;电流密度控制在0.5mA/cm2附近比较好.

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