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利用扫描电镜(SEM),俄歇能谱分析(AES),X射线衍射分析(XRD)和电化学等技术,研究了磁控溅射沉积Al-Zn镀层的结构及其对铀的保护性能.结果表明施加偏压显著地影响Al-Zn镀层的结构和保护性能.在-100V偏压下沉积的Al-Zn镀层,其组织更致密,成分有择优重溅射现象并伴有合金相生成,更有利于铀的防腐保护.

参考文献

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