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由溅射速率方程和反应粒子输运方程得出了靶面化合物的覆盖度.所有方程都用反应室结构参数和宏观参数表示.文中还给出了溅射淀积TiN薄膜的计算结果,结果表明与实验数相吻合.所建立的方法便于工艺优化的实施,属新的工程方法.

参考文献

[1] Bergs Blom H O et al.[J].Journal of Vacuum Science and Technology,1989,A7(03):1225-1229.
[2] Schiller S;Heisig U et al.[J].Surface and Coatings Technology,1987,33:405-423.
[3] 王敬义,王宇,陶甫廷,陈文辉,张巍,冯信华,陶臻宇,尹盛.提高粉粒沉降过程中等离子体纯化能力的研究[J].稀有金属材料与工程,2001(04):253-256.
[4] Wang Jingyi.Growth Theory of Thin Films[M].武汉:华中科技大学出版社,1993:403-409.
[5] Wang Jingyi;Chen Wei;WANG Yu et al.[J].Journal of Applied Physics,1993,73(05):2518-2523.
[6] Davis W D;Vandersline T A .[J].Physical Review,1963,131:219-225.
[7] 王敬义.[J].微细加工技术,2002(07):233-237.
[8] Brian Chapman.Glow Discharge Processes[M].New York: John Wiley Sons. Inc,1980
[9] 陶甫廷,王敬义,冯信华,罗文广,张巍,陈文辉,赵宁,尹盛.粉粒在等离子体中沉降的运动学分析[J].稀有金属材料与工程,2001(01):11-14.
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