等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响

功能材料, 2004, 35(6): 755-757.

1.汕头大学,物理系,广东,汕头,515063

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基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(G2000028208)

Effect of plasma chemical vapor deposition parameters on electron property in Ar plasma

采用加热的调谐单探针技术,研究了射频辉光放电Ar等离子体空间电子能量分布函数,电子平均能量和电子密度,并系统分析了等离子体增强化学气相沉积工艺参量对等离子体空间电子特性的影响.

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