以某18英寸湿法刻蚀机腔室为研究对象,建立了流-热耦合的数值分析模型,研究了刻蚀过程中工艺气体在圆筒式腔室内流速、压强、温度的分布规律,结合HF酸在乙醇环境下刻蚀SiO2的工艺原理,提出了由耗散系数、物质转换系数、物质量通量、品格结构等表征的刻蚀速率及刻蚀不均匀性评价方法,得到了腔室关键结构及主要工艺的参数对刻蚀性能的影响规律.
参考文献
| [1] | Kim YJ;Boo JH;Hong B;Kim YJ .Effects of showerhead shapes on the flowfields in a RF-PECVD reactor[J].Surface & Coatings Technology,2005(1/3):88-93. |
| [2] | 李桂琴,陆利新,王成刚.PECVD反应室的气流场模拟分析[J].真空,2012(03):42-46. |
| [3] | 夏焕雄,向东,牟鹏,姜崴,葛研,王丽丹.PECVD腔室热流场数值仿真研究[J].人工晶体学报,2012(04):1030-1036. |
| [4] | J. W. Lee;P. G. Jung;M. Devre .Optimization of gas flow and etch depth uniformity for plasma etching of large area GaAs wafers[J].Solid-State Electronics,2002(5):685-688. |
| [5] | 薛海鹏 .纳米金刚石膜的晶粒生长控制及其刀具涂层应用的基础研究[D].南京航空航天大学,2013. |
| [6] | 王伟 .刻蚀机腔室结构特性分析与工艺性能参数优化[D].重庆大学,2014. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%