磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响

兵器材料科学与工程 , 2016, 39(3): 83-85.

磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响

王金东 ^1, , 赵岩 ^2, , 朱砚葛 ^3, , 夏法锋 ^4, , 高媛媛 ^5, , 曹阳 ^6,

1.东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318

2.东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318

3.东北石油大学电气信息工程学院,黑龙江大庆,163318

4.东北石油大学机械科学与工程学院,黑龙江大庆,163318

5.中国石油管道大庆输油气分公司,黑龙江大庆,163458

6.中国石油管道大庆输油气分公司,黑龙江大庆,163458

基金项目: 国家自然科学基金资助项目(51474072) 中国博士后科学基金资助项目(2015M581425)

关键词：磁场-电沉积 , 显微硬度 , 电流效率

Effect of magnetic field intensity on Ni-TiN coating prepared by magnetic-electrodeposition method

Keywords： magnetic-electrodeposition , microhardness , current efficiency

采用磁场-电沉积方法在40Cr表面制备Ni-TiN镀层,利用显微硬度计、扫描电镜、EDS能谱仪等仪器研究磁场强度对Ni-TiN镀层的显微硬度、表面形貌、TiN粒子复合量及镀液电流效率的影响.结果表明:当磁场强度为0.9T时,镀层显微硬度达到最大值,为730HV;TiN粒子复合量的质量分数达到最大值,为3.6％;电流效率达到最小值,为73％.SEM分析表明,当磁场强度为0.5 T时,Ni-TiN镀层的晶粒尺寸较大,表面较粗糙;当磁场强度为0.9 T时,镀层表面较平整,晶粒显著细化.

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磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响

Effect of magnetic field intensity on Ni-TiN coating prepared by magnetic-electrodeposition method

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