最优实验条件下碳纳米管膜的场发射特性

功能材料, 2010, 41(z2): 229-231.

最优实验条件下碳纳米管膜的场发射特性

樊志琴 ^1, , 蔡根旺 ^2, , 李瑞 ^3, , 黄浩 ^4, , 张君德 ^5, , 王建星 ^6, , 康广生 ^7,

1.河南工业大学,理学院,河南,郑州,450001

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基金项目: 河南省教育厅自然科学基金资助项目(2008B140004)

关键词：正交设计方法 , 碳纳米管 , MPCVD , 场发射 , 拉曼光谱

Field emission properties of carbon nanotubes films in the optimal experimental conditions

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法,在不锈钢衬底上直接沉积碳纳米管膜.通过正交设计方法综合研究了反应温度、气压、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜场发射性能的影响.结果表明,不同条件下制备的碳纳米管膜的场发射性能有很大差异,其中起主要作用的是反应温度和气压.保持氢气的流量(100mL/min)不变,温度为700～800℃时,反应室压强为6.5kPa时,场发射性能最好,开启场强仅为0.8V/μm,发射点分布密集、均匀.

参考文献

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