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本文采用脉冲激光沉积方法在LaAlO3 (001)单晶衬底上制备了反钙钛矿GaCMr3薄膜,通过控制制备过程中脉冲激光的能量,研究了不同激光能量条件对GaCMn3薄膜结构与物理性能的影响.分别利用X射线衍射仪、原子力显微镜、超导量子干涉仪和物理性能测试系统,对所制备的薄膜的晶体结构、表面形貌和磁性、电输运性质进行了研究.结果表明,制备的样品均为具有多个晶面取向的反钙钛矿薄膜,且薄膜结构和物性明显随制备激光能量的变化而变化.当激光能量为450 mJ时,制备的薄膜多晶面取向性最弱,结晶性和表面形貌最优电实验所得的薄膜均表现出顺磁-铁磁-反铁磁相转变,然而转变过程比块材较平缓,同时薄膜的电阻率并未表现出块材中的突变特征,我们推测该现象很可能是由衬底的应力及衬底的晶格膨胀对薄膜反常晶格变化的抑制作用造成的.

参考文献

[1] H.S. Choi;W.S. Kim;J.C. Kim .Epitaxial growth of antiperovskite GaCMn_3 film on perovskite LaAlO_3 substrate[J].Journal of Materials Research,2002(10):2640-2643.
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