NiOx电致变色薄膜结构与性能的X射线研究

功能材料, 2010, 41(4): 659-661.

NiOx电致变色薄膜结构与性能的X射线研究

钟一叶 ^1, , 刘化然 ^2, , 张欣 ^3, , 冯博学 ^4,

1.兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃,兰州,730000

2.兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃,兰州,730000

3.兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃,兰州,730000

4.兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃,兰州,730000

基金项目: 国家自然科学基金资助项目(60576013;60536010)

关键词：电致变色 , 射频溅射 , NiOx薄膜 , X射线衍射技术

X-ray study on the structure and property of NiOx film

电致变色是指材料的光学性能(光的透射、反射和吸收)通过外加电场或电流的作用,在包括可见光波长的某一波长范围内发生可逆变化的现象.氧化镍薄膜是目前发现的性能最好的电致变色材料之一,采用反应性磁控射频溅射法,利用金属镍作为靶材,在氮与氧混合气体中,通过直流磁控反应溅射法制备氧化镍薄膜,用X射线衍射技术分析其结构,用循环伏安法对NiOx薄膜的电致变色过程进行分析.

参考文献

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X-ray study on the structure and property of NiOx film

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