研究了反应射频磁控溅射制备的非晶氧化铝薄膜中电荷输运过程,发现交流和直流电导导电机制是明显不同的.对直流输运,以Poole-Frenkel发射模式为主,而新样品的直流电导则常常是带陷阱的空间电荷限制电流模式.交流电导则是由所谓的声子辅助的定域载流子的跳跃引起的.电导的温度特性表明,交流电导有两种不同的导电机制,即低温区的浅陷阱发射和高温区的因氧缺陷导致的深陷阱的发射过程,直流电导与交流电导在高温区趋于一致.
参考文献
| [1] | Moodera J S et al.[J].Applied Physics Letters,1996,69:708. |
| [2] | Momataigne F et al.[J].Applied Physics Letters,1998,73:2829. |
| [3] | 高观志;雷清泉.固体中的电输运[M].北京:科学出版社,1991:143. |
| [4] | Pollack S R .[J].Journal of Applied Physics,1963,34:877. |
| [5] | Chiu FC.;Lee JY.;Wu SC.;Wang JJ. .LEAKAGE CURRENTS IN AMORPHOUS TA2O5 THIN FILMS[J].Journal of Applied Physics,1997(10):6911-6915. |
| [6] | 李景.电介质材料物理和应用[M].广州:中山大学出版社,1992:173. |
| [7] | Lampert M Y.Current Injection in Solid[M].New York:Academic Press Inc,1970 |
| [8] | 赵登涛.A1/a-Al2O3/Al电容器中的时效过程[M]. |
| [9] | Jonscher A K et al.[J].Journal of Materials Science,1981,16:2037. |
| [10] | Austin I G et al.[J].ADVANCES IN PHYSICS,1969,18:41. |
| [11] | Pollack M et al.[J].Physical Review,1961,122:1742. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%