用直流磁控溅射在300℃不同Ru-x% Cr (x=0,20,40)下底层沉积制备了Co-15% W(原子分数)磁性薄膜.用XRD表征了薄膜的精细晶体结构,分析了Co-W和Ru-Cr层的取向关系,估算了薄膜层的晶格常数、c轴分散角、fcc/hcp体积百分比和堆垛层错密度值.结果表明,随着Ru-Cr下底层Cr成分的增加Co-W磁性层和Ru-Cr下底层间的晶格错配度降低,hcp-Co的晶格常数比c/a随之减小.磁性能测试结果证实,由于Co-W磁性层中晶格常数比c/a的减小磁性层的磁各向异性能显著提高.
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