欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

由于ITO具有复杂的微观结构和吸收机制,很难准确测量出它的光学常数.采用变入射角光度椭偏仪(VASE)建立了一套简单的拟合模型,成功拟合出ITO光学常数在可见光范围内随波长的变化关系.并在此基础上分析了电子束蒸发法蒸发速率对ITO薄膜光学常数的影响.根据Hall效应测量了ITO在不同蒸发速率下的载流子浓度,分析了ITO光学常数随蒸发速率增加而增加的机理.

参考文献

[1] 王晓华,范希武,李柄生,张吉英,刘益春,吕有明,申德振.Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响[J].光电子·激光,2003(08):783-786.
[2] 赵秀玲,任丙彦,赵龙,王文静.射频磁控溅射ITO薄膜中沉积温度对膜特性影响[J].光电子·激光,2005(12):1429-1432.
[3] Woollam J A;McGahan W A;Jons B D .[J].Spie,1994,2253:962-968.
[4] Synowicki R A .[J].Thin Solid Films,1998,394:312-314.
[5] Jung YS .Spectroscopic ellipsometry studies on the optical constants of indium tin oxide films deposited under various sputtering conditions[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2004(1/2):36-42.
[6] Rhaleb H E;Benamar E;Rami M et al.[J].Application Surface Sinence,2002,201:138-145.
[7] Gerfin T;Graitzel M .[J].Applied Physics,1996,79:1722-1729.
[8] Losurdo M;Giangregorio M;Capezzuto P et al.[J].Journal of Vacuum Science and Technology,2002,A20:37-42.
[9] 史济群;周京英 等.[J].华中理工大学学报,1998,26:10-12.
[10] 李言重;恽正中.电子材料导论[M].北京:清华大学出版社,2001:303.
[11] 王力衡;黄运添;郑海涛.薄膜技术[M].北京:清华大学出版社,1991:58.
[12] Ann D P .[J].Physica,1900,1:566.
[13] Qiao Zhaohui;Merge D .[J].Thin Solid Films,2005,484:146.
[14] Stocia T F;Teodorescu V S;Blanchin M G et al.[J].Materials Science and Engineering,2003,B101:222-226.
[15] Jellison G E .[J].Thin Solid Films,2004,450:42-50.
[16] Chen R T;Robinson D .[J].Applied Physics Letters,1992,60:1541.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%