研究了SrTiO3基压敏陶瓷热处理过程中氧的作用.发现SrTiO3基压敏陶瓷的压敏电压U10mA与试样的厚度无关,且随着热处理温度的升高而增大.进一步的试验表明SrTiO3基压敏陶瓷的压敏特性主要受试样表面高阻层的控制.X射线光电子能谱(XPS)的Mn 2p和O 1s谱图表明,表面高阻层是氧在热处理过程中通过晶界的扩散和化学吸附产生的.因此,氧在晶界处的化学吸附是SrTiO3基陶瓷压敏特性产生的根源.
参考文献
| [1] | 刘斌,王德生,陈维,陈寿田.Ba2+浓度对SBBT高压陶瓷电容器电击穿特性的影响[J].稀有金属材料与工程,2002(06):480-482. |
| [2] | Fujimoto M;Chiang Y M;Roshko A .[J].Journal of the American Ceramic Society,1985,68(11):C300. |
| [3] | Yamaoka N;Masuyama M;Fukui M .[J].American Ceramic Society Bulletin,1983,62(05):698. |
| [4] | Zou Q.;Meng ZY. .MICROSTRUCTURE AND GRAIN BOUNDARY STRUCTURE OF NA+-DIFFUSED (SR,CA)TIO3 CAPACITOR VARISTOR CERAMICS[J].Journal of the American Ceramic Society,1995(1):58-64. |
| [5] | Kaino D;Funayama J;Yamaoka N .[J].Japanese Journal of Applied Physics,1985,24(z3):120. |
| [6] | Nakano Y;Ichinose N.[J].Journal of Materials Research,1990(12):910. |
| [7] | Stucki F;Greuter F.[J].Applied Physics Letters,1990(57):446. |
| [8] | Gupta T K;Straub W D.[J].Journal of Applied Physics,1990(68):845. |
| [9] | Li S T;Li J Y;Liu F Y.[J].Journal of Applied Physiology,2002(85):1884. |
| [10] | 李建英 .SrTiO3多功能陶瓷的空气还原研究[D].西安:西安交通大学,1999. |
| [11] | Bueno P R;Leite E R;Oliveira M M.[J].Applied Physics Letters,2001(79):48. |
| [12] | BurnI.[J].Journal of Materials Science,1979(14):2453. |
| [13] | 邹秦 .SrTiO<,3>基多功能陶瓷晶界的结构、形成与控制的研究[D].西安交通大学,1994. |
| [14] | Sakaguchi I;Watanabe A;Haneda H.[J].Journal of the European Ceramic Society,1996(16):907. |
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