陶瓷微珠的抛光研究

稀有金属材料与工程, 2005, 34(z1): 178-180.

陶瓷微珠的抛光研究

张辛玥 ^1, , 杨金龙 ^2, , 黄勇 ^3,

1.清华大学材料科学与工程系,北京,100084

2.清华大学材料科学与工程系,北京,100084

3.清华大学材料科学与工程系,北京,100084

基金项目: 新材料领域项目(2001AA337060)

关键词：陶瓷微珠 , 抛光 , CMP

Research on Surface Finish of Ceramic Beads

通过对氧化铝、莫来石陶瓷微珠进行抛光研究.研究了不同抛光条件,水基、油基等不同基体,不同磨料对于微珠抛光效果的影响.证实氧化铈对微珠抛光有良好效果,并尝试从微观角度分析原因.

参考文献

[1]	Jongwon Seok;Cyriaque P. Sukam;Andrew T. Kim;John A. Tichy;Timothy S. Cale .Multiscale material removal modeling of chemical mechanical polishing[J].Wear: an International Journal on the Science and Technology of Friction, Lubrication and Wear,2003(3/4):307-320.
[2]	Yuan J L.[J].Journal of Materials Processing Technology,2002(129):171.
[3]	Jacek Kolacz;Knut Lyng Sandvik.[J].Mineral Processing,1996(44):361.
[4]	Zhaowei Zhong .Surface finish of precision machined advanced materials[J].Journal of Materials Processing Technology,2002(2/3):173-178.
[5]	Ming Jiang;N. O. Wood;R. Komanduri .On chemo-mechanical polishing (CMP) of silicon nitride (SI{sub}3N{sub}4) workmaterial with various abrasives[J].Wear: an International Journal on the Science and Technology of Friction, Lubrication and Wear,1998(1):59-71.

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