抛光液成分对铝栅化学机械抛光过程中铝去除速率的影响

电镀与涂饰 , 2016, 35(11): 575-578.

抛光液成分对铝栅化学机械抛光过程中铝去除速率的影响

张金 ^1, , 刘玉岭 ^2, , 闫辰奇 ^3, , 张文霞 ^4,

1.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

2.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

3.河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130

4.华北理工大学,河北唐山,063009

基金项目: 国家中长期科技发展规划02科技重大专项资助项目(2009ZX02308).

关键词：铝栅 , 化学机械抛光 , 氧化剂 , 螯合剂 , 表面活性剂 , 去除速率

Effect of composition of polishing solution on aluminum removal rate in chemical mechanical polishing of aluminum grid

Keywords： aluminum grid , chemical mechanical polishing , oxidant , chelating agent , surfactant , removal rate

在低工作压力(1 psi)和低磨料用量(纳米硅溶胶体积分数2.5％,后同)下,通过单因素实验探讨了碱性抛光液组分(包括氧化剂H2O2、FA/O型螯合剂和非离子型表面活性剂)含量对铝栅化学机械抛光过程中铝去除速率的影响,确定抛光液的组成为:氧化剂1.5％,螯合剂0.5％,表面活性剂1.0％.铝的去除速率为1 00 nm/min,抛光后的表面粗糙座为8.85 nm.

参考文献

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

抛光液成分对铝栅化学机械抛光过程中铝去除速率的影响

Effect of composition of polishing solution on aluminum removal rate in chemical mechanical polishing of aluminum grid

参考文献