沉积温度对温度梯度法制备氮化硼薄膜结构和硬度的影响

1.大连理工大学,辽宁大连116024;北京航空工业制造研究所高能束流加工技术国家重点实验室,北京100024

2.北京航空工业制造研究所高能束流加工技术国家重点实验室,北京,100024

3.大连理工大学,辽宁大连116024;北京航空工业制造研究所高能束流加工技术国家重点实验室,北京100024

4.北京航空工业制造研究所高能束流加工技术国家重点实验室,北京,100024

5.大连理工大学,辽宁大连116024;北京航空工业制造研究所高能束流加工技术国家重点实验室,北京100024

6.北京航空工业制造研究所高能束流加工技术国家重点实验室,北京,100024

7.大连理工大学,辽宁大连,116024

8.大连理工大学,辽宁大连,116024

Effects of Deposition Temperature on the Structure and Hardness of BN Films Prepared by a Gradient Temperature Method

采用温度梯度法,通过MW-ECR射频磁控溅射在硅片基底上制备了六方和立方混合的氮化硼薄膜.研究了薄膜的键结构,化学成分和力学性能.结果显示,对于氮化硼立方相的出现存在温度阈值,薄膜的硬度随沉积温度提高而提高.相对于传统薄膜制备方法,温度梯度方法具有更高的效率.

[1]	Kulisch W;Freudenstein R .Deposition of thick cubic boron nitride films - Mechanisms and concepts[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2007(2/4):216-222.
[2]	Lattemann M;Ulrich S;Ye J .New approach in depositing thick, layered cubic boron nitride coatings by oxygen addition - structural and compositional analysis[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2006(3):1058-1062.
[3]	Park KS.;Kim KJ.;Moon DW.;Lee DY. .GROWTH MECHANISM OF CUBIC BORON NITRIDE THIN FILMS BY ION BEAM ASSIST SPUTTER DEPOSITION[J].Journal of Vacuum Science & Technology, A. Vacuum, Surfaces, and Films,1997(3 Pt.1):1041-1047.
[4]	Jankowski AF.;Makowiecki DM.;Mckernan MA.;Hayes JP. .FORMATION OF CUBIC BORON NITRIDE BY THE REACTIVE SPUTTER DEPOSITION OF BORON[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,1997(0):94-100.
[5]	Reinke S;Freudenstein R;Kulisch W .On the role of ion bombardment in cubic boron nitride deposition[J].Surface & Coatings Technology,1997(1/3):263-269.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分