纳米压印中聚合物界面行为的分子动力学

高分子材料科学与工程, 2011, 27(6): 186-190.

纳米压印中聚合物界面行为的分子动力学

熊孝东 ^1, , 魏正英 ^2, , 杜军 ^3, , 丁玉成 ^4,

1.机械制造系统工程国家重点实验室(西安交通大学),陕西西安710049

2.机械制造系统工程国家重点实验室(西安交通大学),陕西西安710049

3.机械制造系统工程国家重点实验室(西安交通大学),陕西西安710049

4.机械制造系统工程国家重点实验室(西安交通大学),陕西西安710049

基金项目: 长江学者和创新团队发展计划(IRT0646)资助) 国家自然基金重大研究计划(90923040) 国家自然科学基金资助项目(50975227) 全国博士学位论文作者专项资金(200740)

关键词：纳米压印 , 分子动力学 , 聚合物 , 吸附 , 相互作用能

Molecular Dynamics of Polymer's Interface Behaviour in the Nanoimprint Lithography

在纳米压印中,模具和聚合物之间的相互作用能对压()特征的图型转移质量有着重要影响,文中利用分子动力学分别选择聚二甲基硅氧烷(PDMS),聚乙烯(PE),聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)研究了他们和模具壁面之间在不同距离时,壁面和聚合物之间相互作用能的变化关系,并考虑聚合物填充过程中压强对模具壁面和聚合物之间相互作用的影响,以及聚合物聚合度对他们之间的影响.通过研究得出,聚合物和壁面之间相互作用能随距离的增大而减小,随聚合物聚合度的增加而增大;对于常温紫外压印,压强在233 kPa左右时聚合物和模具壁面间的相互作用能出现了峰值点.

参考文献

[1]	S. Merino;H. Schift;A. Retolaza;T. Haatainen .The use of automatic demolding in nanoimprint lithography processes[J].Microelectronic engineering,2007(5/8):958-962.
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[3]	Ji-Hoon Kang;Kwang-Seop Kim;Kyung-Woong Kim .Molecular dynamics study of pattern transfer in nanoimprint lithography[J].Tribology letters,2007(2):93-102.
[4]	Young Seok Woo;Dong Eon Lee;Woo Il Lee .Molecular Dynamic Studies on Deformation of Polymer Resist During Thermal Nano Imprint Lithographic Process[J].Tribology letters,2009(3):209-222.

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