单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶

原子核物理评论 , 2008, 25(1): 56-60.

单次分子镀法制备Sm和Eu厚靶

张丽娜 ^1, , 秦芝 ^2, , 吴晓蕾 ^3, , 丁华杰 ^4, , 林茂盛 ^5, , 白静 ^6, , 范芳丽 ^7, , 马健 ^8, , 雷富安 ^9, , 郭俊盛 ^10,

1.中国科学院近代物理研究所,甘肃,兰州,730000

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基金项目: 国家自然科学基金(10575122)

关键词：分子镀法 , 制备 , 稀土元素 , 厚靶 , 分光光度法测定

Preparation of Sm and Eu Thick Targets by Using One Cycle Molecular Plating Method

研究了在异丙醇-硝酸体系中单次分子镀流程制备Sm和Eu厚靶的实验条件.确定了在20 μm铍箔上进行Sm和Eu分子镀实验的最佳工艺条件为:两极间距3 cm,电流密度3.8 mA/cm2,分子镀过程持续1 h.用分光光度法测定了分子镀的沉积效率均高于95%,所制备Sm和Eu靶膜的厚度分别在1.6和1.5 mg/cm2.

参考文献

[1]	Eberhardt K,Schdel M,Schimpf E,et al.Nucl Instr and Meth,2004,A521:208.
[2]	Luo X H,Xu G J.Atomic Energy Science and Technology,1989,23(1):82(in Chinese).(罗兴华,许国基.原子能科学技术,1989,23(1):82.)
[3]	Anmann D C,Mullen G.Nucl Instr and Meth,1974,A115:75.
[4]	Qin Zhi,Guo Junsheng,Gan Zaiguo.Applied Radiation and Isotopes,2001,54:741.
[5]	Liu W H,Liu P Y.Chinese Journal of Analysis Laboratory,2005,21(3):89 (in Chinese).(刘文华,刘鹏宇.分析试验室,2005,21(3):89.)

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Preparation of Sm and Eu Thick Targets by Using One Cycle Molecular Plating Method

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