欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

本文设计并制备了适用于砷化镓(GaAs)多结太阳电池的TiO2/SiO2双层减反射膜,通过实测反射谱来验证了理论设计的正确性.利用编程分析了TiO2、SiO2单层膜的厚度及其折射率对双层膜系反射率的影响.结果显示,在短波范围(300 ~600 nm),TiO2膜厚对反射率的影响要大于SiO2,而SiO2折射率对反射率的影响比TiO2大;在中波范围(600~900 nm),随着单层膜的厚度和折射率的增加,双层膜系反射率存在一个最小值,变化趋势是先降低,而随后增加.同时,计算结果得到SiO2和TiO2的最优物理膜厚分别为78.61nm和50.87nm,此时在短波段中心波长λ1=450nm处最小反射率为0.0034%,在中波段中心波长λ2=750nm处最小反射率为0.495%.采用电子束蒸发法在GaAs基底上淀积TiO2/SiO2双层膜,厚度分别为78 nm和5O nm.实测短波和中波相应的反射率极小值分别为0.37%和2.95%,与理论结果吻合较好.

参考文献

[1] 杨文华,李红波,吴鼎祥.太阳电池减反射膜设计与分析[J].上海大学学报(自然科学版),2004(01):39-42.
[2] Schrone L;Sotgiu G;Califano F P .Chemically Etched Porons Silicon as an Antireflection Coating for High Efficiency Solar Cells[J].Thin Solil Films,1997,297(1-2):296.
[3] Krygowski T.;Rohatgi A. .A simultaneously diffused, textured, in situ oxide AR-coated solar cell process (STAR process) for high-efficiency silicon solar cells[J].IEEE Transactions on Electron Devices,1998(1):194-199.
[4] Marques F.C. .Sprayed SnO/sub 2/ antireflection coating on textured silicon surface for solar cell applications[J].IEEE Transactions on Electron Devices,1998(7):1619-1622.
[5] 黄生荣.GaAs太阳电池减反射膜的设计[J].漳州师范学院学报(自然科学版),2010(01):70-73.
[6] 杨文华,吴鼎祥,李红波.空间高效硅太阳电池减反射膜设计与数值分析[J].半导体学报,2004(09):1118-1122.
[7] 袁海荣,向贤碧,常秀兰,陆大成.AlxGa1-xAs/GaAs太阳电池MgF2/ZnS双层减反射膜的研究[J].太阳能学报,2000(04):371-378.
[8] 王永东,崔容强,徐秀琴.太阳电池减反射膜系统的研究[J].太阳能学报,2001(03):317-321.
[9] Bouhafs D.;Chikouche A.;Ruiz JM.;Moussi A. .Design and simulation of antireflection coating systems for optoelectronic devices: Application to silicon solar cells[J].Solar Energy Materials and Solar Cells: An International Journal Devoted to Photovoltaic, Photothermal, and Photochemical Solar Energy Conversion,1998(1/2):79-93.
[10] Lee S E;Chio S W;Yi J .Double-layer Anti-reflection Coating Using MgF2 and CeO2 Films on a Crystalline Silicon Substrate[J].Thin Solid Films,2000,376(1-2):208.
[11] Cid M.;Brunetti C.;Beloto AF.;Ramos CAS.;Stem N. .Improvements in anti-reflection coatings for high-efficiency silicon solar cells[J].Surface & Coatings Technology,1998(2/3):117-120.
[12] 黄火林,张峰,吴正云,齐红基,姚建可,范正修,邵建达.4H-SiC基底Al2O3/SiO2双层减反射膜的设计和制备[J].光学学报,2008(12):2431-2435.
[13] 谭天亚,黄建兵,占美琼,邵建达,范正修,吴炜,郭永新.三硼酸锂晶体上1064 nm,532 nm,355 nm三倍频增透膜的设计[J].光学学报,2007(07):1327-1332.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%