利用双面氧化弯曲方法原位测量了Ｆｅ－２３Ｃｒ－５Ａｌ合金空气中氧化形成的ＡＩ２Ｏ３膜平均生长应力. ＡＩ２Ｏ３膜内存在压应力. ９００℃下氧化２０ｈ, 膜内应力从３．５降低到２ＧＰａ, １０００℃下氧化１０ｈ, 膜内应力从０．８降低到０．４ＧＰａ, 合金表面离子注入１×１０＾１７Ｃｅ＾＋／ｃｍ＾２, 增大了ＡＩ２Ｏ３膜的生长应力, 其原因是添加稀土促进膜的横向生长, 离子注入Ｃｅ同时增大了合金的氧化速率.
参考文献
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