退火温度和时间对用电沉积法制备的高硅钢性能的影响

材料研究学报, 2014, 28(7): 549-554.

退火温度和时间对用电沉积法制备的高硅钢性能的影响

李慧 ^1, , 梁精龙 ^2, , 李运刚 ^3, , 张芬萍 ^4,

1.河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室唐山 063009

2.河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室唐山 063009

3.河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室唐山 063009

4.河北联合大学冶金与能源学院现代冶金技术教育部重点实验室唐山 063009

基金项目: Supported by National Natural Science Foundation of China No.51274082.国家自然科学基金51274082资助项目.

关键词：金属材料 , 高硅钢 , 显微组织 , Goss织构 , 磁性能

Effect of Annealing Conditions on Microstructure of High Silicon Steel Prepared by Electrodeposition

Keywords： metallic materials , high silicon steel , microstructure , Goss texture , magnetism

研究了退火温度和退火时间对电沉积硅钢试样中的断面层组织、硅在试样中的分布情况、织构分布和磁性能的影响.结果表明:退火温度为1000℃、退火时间为210 min时得到的试样晶粒分布均匀、硅在试样中分布均匀、硅平均浓度为6.3715％(接近6.5％).试样的织构分析及磁性能检测的结果表明,在较高温度下延长退火时间可增加{100}和{110}面织构,降低铁损,所得试样的磁性能较为良好.

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