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以低碳钢圆饼为基体,在焦磷酸盐溶液体系中滚镀制备厚度为20 μm以上的低锡铜锡合金.研究了Sn2P2O7的质量浓度、K4P2O7的质量浓度、添加剂JZ-1的用量、阴极电流密度及镀液温度对铜锡合金镀层组成和性能的影响.结果表明,这些因素对镀层的组成、性能和持续增厚都有一定的影响.低锡铜锡合金镀层可持续增厚的镀液组成与工艺条件为:K4P2O7 350~400 g/L,Cu2P2O7·4H2O 20~25 g/L,Sn2P2O7 1.5~2.0 g/L,K2HPO4·3H2O 60 g/L,添加剂JZ-1 0 ~ 0.5 mL/L,pH 8.5,阴极电流密度0.34~0.46 A/dm2,镀液温度25~35℃,滚筒转速15 r/min,循环过滤.在上述条件下对钢铁基体滚镀4h可获得平均厚度为20 μm以上、锡的质量分数为12%~ 16%的铜锡合金镀层,该镀层与钢铁基体之间的结合力良好、耐蚀性能好,具有较好的机械性能与物理性能.

参考文献

[1] 钟云,何永福,贺飞,刘利梅,苏永庆.电镀铜锡合金工艺研究进展[J].电镀与环保,2007(04):1-3.
[2] 庄瑞舫.电镀光亮低锡铜锡合金的研究[J].材料保护,1992(01):29.
[3] 刘建平.无氰电镀高锡铜锡合金工艺[J].电镀与涂饰,2008(03):9-11.
[4] 王丽丽.Cu-Sn合金电镀[J].电镀与精饰,2000(05):42-44.
[5] 何丽芳,郭忠诚.无氰仿金电镀的研究现状[J].电镀与涂饰,2006(03):51-54.
[6] Deenesh Padhi;Srinivas Gandikota;Hoa B. Nguyen;Chris McGuirk;Sivakami Ramanathan;Joseph Yahalom;Girish Dixit .Electrodeposition of copper-tin alloy thin films for microelectronic applications[J].Electrochimica Acta,2003(8):935-943.
[7] Finazzi GA;de Oliveira EM;Carlos IA .Development of a sorbitol alkaline Cu-Sn plating bath and chemical, physical and morphological characterization of Cu-Sn films[J].Surface & Coatings Technology,2004(2/3):377-387.
[8] Correia AN;Facanha MX;de Lima-Neto P .Cu-Sn coatings obtained from pyrophosphate-based electrolytes[J].Surface & Coatings Technology,2007(16/17):7216-7221.
[9] 张琪,曾振欧,徐金来,赵国鹏.低锡铜-锡合金无氰电镀工艺[J].电镀与涂饰,2011(09):1-4.
[10] 张琪,曾振欧,赵国鹏.添加剂对无氰电镀铜-锡合金(低锡)镀层性能的影响[J].电镀与涂饰,2012(01):1-4.
[11] 冯冰,曾振欧,张琪,谢金平,范晓玲,高燕,雷晓云.无氰滚镀低锡铜-锡合金工艺[J].电镀与涂饰,2012(10):15-18.
[12] 张景双;石金生;石磊.电镀溶液与镀层性能测试[M].北京:化学工业出版社,2003
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