电弧离子镀沉积Al-O-N高温扩散阻挡层的研究

钢铁研究学报, 2003, 15(z1): 457-460.

电弧离子镀沉积Al-O-N高温扩散阻挡层的研究

王启民 ^1, , 武颖娜 ^2, , 柯培玲 ^3, , 孙超 ^4, , 黄荣芳 ^5, , 闻立时 ^6,

1.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

2.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

3.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

4.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

5.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

6.中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

关键词： Al-O-N , 扩散阻挡层 , 电弧离子镀

Study on Al-O-N Film Deposited by Arc Ion Plating as Diffusion Barrier

采用电弧离子镀技术在DSM11合金与NiCoCeAlY涂层间沉积Al-O-N高温扩散阻挡层薄膜,研究了不同O2、N2流量对Al-O-N薄膜相结构的影响及高温下Al-O-N薄膜阻挡合金元素互扩散的行为.实验结果表明,电弧离子镀法沉积的Al-O-N薄膜为多晶膜,具有α-Al2O3+六方AlN的相结构,随着N2的增加,AlN相的含量增加.在1050℃下氧化100h后,Al-O-N层能有效阻挡DSM11合金中的Ti元素向外扩散,扩散阻挡层对涂层的氧化动力学影响不大.

参考文献

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