赵凤丽
,
代明江
,
林松盛
,
许伟
,
侯慧君
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.022
目的 研究离子源功率对a-C:H(Al)薄膜结构及性能的影响.方法 采用阳极离子源离化CH4气体,中频磁控溅射Al靶,通过改变离子源功率,在n(100)型单晶硅及16MnCr5钢基体上沉积a-C:H(Al)薄膜.利用扫描电镜、维氏显微硬度计、摩擦磨损试验机和表面轮廓仪等设备对a-C:H(Al)薄膜的结构及性能进行表征.结果 薄膜的硬度均在1000HV以上.摩擦系数较低,为0.05~0.15.离子源功率为450 W时,薄膜摩擦系数和结合力均出现了最优值,分别为0.05和21.46 N.离子源功率在550 W时,磨损率达到最低值,为3.59×10?7 mm3/(N·m).结论 离子源功率较低时,薄膜表面较疏松,随着离子源功率的增加,薄膜逐渐趋于平整致密.随离子源功率的增加,薄膜的硬度增大,薄膜的结合力先增大后减小,而薄膜的摩擦系数先减小后增大,磨损宽度减小,磨损深度降低,磨损率减小.
关键词:
类金刚石薄膜
,
a-C
,
H(Al)薄膜
,
中频磁控溅射
,
离子源功率
,
结合强度
,
摩擦学力学性能
赵肇雄
,
刘勇
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2009.06.001
利用Richarda-Wolf矢量衍射积分公式,获得矢量偏振贝塞耳-高斯光束经具有初级慧差的高数值孔径系统聚焦后的三维光场复振幅函数,模拟了不同慧差系数下聚焦光场的纵向分布,以及焦平面和光轴上的光强.研究表明,初级慧差的存在导致矢量偏振贝塞耳-高斯光束的会聚光场发生偏移和变形,焦平面光强的分布和光轴上的光强峰值都受初级慧差和入射光偏振态的共同影响,偏振态和初级慧差不影响聚焦光场在光轴上的对称分布.
关键词:
物理光学
,
贝塞耳-高斯光束
,
Richards-Wolf矢量衍射积分
,
径向偏振
,
方位角偏振
,
慧差
张西明
,
刘立
,
张新发
,
石道涵
,
陈东喜
,
张浩
腐蚀与防护
doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2004.05.015
对侯8-11井发生腐蚀开裂的套管进行化学成分分析、金相结构及残余应力分析.结果表明,该油井套管腐蚀开裂是由外向内发展的,其主要原因是腐蚀介质中的Cl-、HCO-3和H2S及表面残余应力共同作用引起的应力腐蚀.
关键词:
套管
,
腐蚀开裂
,
裂纹
,
应力腐蚀