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具有汇聚特性的场发射电子源的模拟研究

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.01.011

提出了一种具有汇聚特性的新型场发射阴极结构,利用有限元方法模拟计算了此种阴极结构在不同参数条件下的电场分布、电子轨迹,考察了不同参数对电子汇聚效果的影响,给出了此种场发射阴极的栅极-阴极间距、栅极宽度、阳极电压、栅极电压等基本参数对汇聚效果的影响.模拟计算结果表明,电子束的汇聚程度随着栅极-阴极间距的增大而增大,随着栅极宽度的增大而减小;电子束的汇聚程度与阳极电压、栅极电压参数密切相关,并存在最优参数.

关键词: 场发射 , 阴极结构 , 发散比率 , 有限元

阴极形貌对表面传导电子源的影响

袁光军 , 李春 , 元光 , 郭强

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132804.0516

使用有限元方法分析表面传导电子源阴极的形貌对其阴极和栅极附近电场分布及在金属电极、真空与发射薄膜交界处电子发射轨迹的影响.对不同阴极形貌下电子发射轨迹模拟结果表明,并非所有在金属电极、真空与发射薄膜三者交界处的电子都可以到达阳极板,阳极电压、阴极高度和外形都会影响发射电子的轨迹从而影响阴极电子的发射效率,模拟发现降低电极高度、增大阳极电压、使用大半径的弧形电极可以提高电子发射效率.

关键词: 表面传导电子源 , 电场分布 , 阴极电极形貌

微元法计算粒子光散射的T矩阵

严绍辉 , 林晓春 , 苏宇 , 安毓英

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2005.05.032

粒子的光散射是光学检测中的一个重要内容.T矩阵方法被广泛地应用于粒子的光散射计算中.在计算T矩阵的方法中,最流行的方法称之为扩展边界法(EBCM),但是它很大的程度上只适合轴对称和近似球形的粒子.提出了一种新的计算T矩阵的方法.将积分式直接作用在粒子表面,粒子表面进行三角形网格化,并通过三角形网格将积分转换为求和.这种方法能够计算非轴对称甚至接近真实形状粒子的光散射.

关键词: 光散射 , 光学检测 , T矩阵 , 三角形网格 , 非轴对称

基于金属狭缝结构的表面等离激元全光调控

陈建军 , 李智 , 龚旗煌

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2014.04.006

表面等离激元是束缚在金属-介质交界面上的一种电磁波模式,可突破衍射极限,被认为是下一代集成光子回路最有希望的信息载体.就几种表面等离激元金属狭缝结构的原理和应用做了简单概述.利用法布里-珀罗谐振腔、法诺共振、多模干涉等光学效应,这些金属狭缝结构可对表面等离激元的传输行为进行有效地调控.在理论和实验上,利用金属狭缝结构实现了亚波长表面等离激元单向激发器、亚微米宽带单向激发器、亚微米分束器、超紧凑纳米聚焦器件和亚微米全光开关等纳米光子器件.这些纳米光子器件在纳米集成光学中具有重要应用.

关键词: 纤维与波导光学 , 表面等离激元 , 单向激发器 , 分束器 , 纳米聚焦 , 全光开关

镀锌板非光整边缺陷影响因素的有限元分析

王通书

上海金属 doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2004.05.006

应用商业有限元软件平台Marc建立了镀锌板四辊光整机的模拟系统,分析了轧制过程中轧件变形情况,充分考虑了不同镀锌原板厚度、压下率、前后张力、以及弯辊力等工艺因素对镀锌板非光整边缺陷形成的影响,以及消除非光整边缺陷的辊型要求.

关键词: 镀锌板 , 四辊光整机 , 边部缺陷 , 有限元法 , 三维变形

TiOPc/TiO2/AZO三元复合体系光导性能的研究

李祥高 , 邢凌燕 , 王文保

功能材料

研究了w(TiOPc)=85%、90%、95%时TiOPc/TiO2/AZO三元复合体系的光电导性.研究发现TiO2掺杂对有机光导材料有增感作用.在以TiOPc为主的有机光导材料中掺杂适量的TiO2可以改善光导体的光电导性.在TiOPc/TiO2/AZO三元复合体系中,当m(TiOPc):m(TiO2):m(AZO)=90:4:6时,三元复合体系的光电导性最好,Vr=16V,Rd=14V/s,E1/2=0.64 1x·s.

关键词: 酞菁氧钛 , 光电导性 , 掺杂 , 增感作用

二元Cu合金的光反射率与光阻尼系数

周自强 , 田智明 , 王宁珠

材料研究学报

研究了二元Cu 合金光反射率R 与光波长λ的关系以及Al,Zn,Mo,Si,Ni,稀土元素、大气停留时间和腐蚀作用的影响。研究表明,在本实验情况下,二元Cu 合金的R-λ关系为:R=a-bλ~(-1/2)估算了光在二元Cu 合金中传播的阻尼系数、固溶在Cu 中的过渡族金属的价电子数.

关键词: 反射率 , damper coeffieient , copper alloy

新型可见光响应的 InVO4-Cu2O-TiO2三元纳米异质结：制备及其光催化性能

冯海波 , 李亚萍 , 罗冬明 , 谭功荣 , 蒋剑波 , 袁惠敏 , 彭三军 , 钱东

催化学报 doi:10.1016/S1872-2067(15)61105-6

由于日益严重的环境和能源危机,可见光催化剂的开发已成为当今最具挑战和紧迫的任务之一.将 TiO2和其它窄禁带半导体复合,已被证明是一种有效的可提高其可见光光催化性能的策略. Cu2O是一种禁带宽度为2.0 eV的 p型窄禁带半导体, InVO4则是一种禁带宽度为2.0 eV的 n型半导体,因它们可用于可见光光解水产氢和有机污染物的可见光降解而在过去的数年中引起了人们广泛的关注.但是纯的 Cu2O和 InVO4由于光生电子空穴对在其内部快速地复合,光催化活性通常都比较低.基于能带工程的策略本文设计了一种新型的可见光响应的 InVO4-Cu2O-TiO2三元纳米异质结,并通过普通的湿化学法进行制备：先通过水热法制备 InVO4,再通过溶胶-凝胶法制备 InVO4-TiO2二元复合物,最后通过沉淀和还原过程制备得到 InVO4-Cu2O-TiO2三元纳米异质结.
　　在10%InVO4-40%Cu2O-50%TiO2三元纳米异质结的 X-射线衍射谱中没有观察到明显的杂质峰；通过透射电子显微技术和高分辨透射电子显微技术观察到了它们之间异质结的形成,纳米颗粒的尺寸范围在5?20 nm；经紫外可见漫反射光谱估算得到10%InVO4-40%Cu2O-50%TiO2的禁带宽度为2.78 eV,在可见光区域具有较强的吸收.以普通的9 W节能灯作为可见光光源光照甲基橙5 h后,纯的 InVO4, TiO2和 Cu2O几乎没有光催化活性；10%InVO4-90%TiO2的光催化活性也很低,甲基橙降解率为8%；70%Cu2O-30%TiO2对甲基橙降解率达84%,但初始活性较低；10%InVO4-40%Cu2O-50%TiO2对甲基橙降解率接近90%,并且循环使用6次后,其光催化活性的保持率还维持在90%以上,而50%Cu2O-50%TiO2光催化活性的保持率只有74%.
　　经对使用过的10%InVO4-40%Cu2O-50%TiO2进行 X射线光电子能谱表征发现,存在一弱小的 Cu(II)震动卫星峰,表明在 InVO4-Cu2O-TiO2的光催化过程中 Cu2O的光蚀并不严重.从能带工程的角度分析, InVO4-Cu2O-TiO2三元纳米异质结具有优异的可见光催化性能的主要原因为： InVO4的导带电极电位约为?0.5 eV(vs. SHE,下同),价带电位约为+1.5 eV, Cu2O的分别约为?1.6和+0.4 eV,与 TiO2(导带和价带电极电位分别约为?0.23和+2.97 eV)相比,它们的导带位置更负,将它们组装成三元复合结构,可见光激发的导带电子就可能从 InVO4和 Cu2O的导带迁移到 TiO2的导带上去.同时, n型的 TiO2和 InVO4都与 p型的 Cu2O形成 p-n异质结, n型的 TiO2和 InVO4之间形成 n-n异质结,由于 p-n异质结中内电场的存在以及不同能级相互耦合,可进一步促进可见光激发的导带电子从 InVO4和 Cu2O的导带迁移到 TiO2的导带上去,以及可见光激发的价带空穴从 InVO4的价带迁移到 Cu2O的价带上去,从而实现光生载流子空间上的有效分离.本文有望为新型可见光响应的半导体复合催化剂的设计和制备提供新的思路.

关键词: 钒酸铟 , 氧化亚铜 , 二氧化钛 , 纳米异质结 , 可见光 , 光催化降解 , 甲基橙

钡-聚乙二醇600-四苯硼钠三元体系中痕量钡的光散射法测定

王健 , 谭克俊 , 黄承志

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2007.11.024

在pH=5.2的乙酸-乙酸钠缓冲溶液中,Ba2+与四苯硼钠在聚乙二醇存在下具有强的光散射信号.建立了高灵敏度、简单的痕量钡测定方法.光散射信号强度与Ba2+浓度成正比,方法的线性范围为3.00×10-8～3.43×10-6 g/mL,检出限为2.80×10-9 g/mL.合成样中痕量钡的测定回收率为97.8%～103.6%.方法简便、快速、灵敏度高、线性范围较宽.

关键词: 钡 , 聚乙二醇600 , 四苯硼钠 , 光散射分析法