关中杰
,
靳映霞
,
王茺
,
叶小松
,
李亮
,
杨宇
人工晶体学报
采用低温缓冲层技术制备Ge薄膜,利用AFM和Raman光谱研究缓冲层厚度对低温Ge缓冲层残余应变弛豫的影响.实验结果显示:随着缓冲层厚度的增加,残余应变弛豫度增大.在30 nm厚的低温Ge缓冲层上生长800nm厚的Ge外延层.Ge薄膜具有良好的结晶性,表面粗糙度RMS为2.06 nm.
关键词:
Ge薄膜
,
低温Ge缓冲层
,
射频磁控溅射
叶小松
,
王茺
,
关中杰
,
靳映霞
,
李亮
,
杨宇
功能材料
利用磁控溅射技术在Si(100)衬底上直接外延生长一系列不同压强下的Ge纳米点样品,并利用AFM、Raman和XRF对Ge纳米点样品形貌和结构进行了研究。结果表明Ge薄膜表面粗糙度在某一临界压强下发生突变,高能粒子热化的临界值与这种转变密切相联;分析讨论了Ge岛在不同溅射气压下的生长过程,在一定范围随着压强的增大会显示典型生长阶段的特征。
关键词:
磁控溅射
,
Ge/Si纳米点
,
表面形貌
,
热化
吴清鑫
,
陈光红
,
于映
,
罗仲梓
功能材料
采用了等离子体增强化学气相沉积法(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)在聚酰亚胺(polyimide,PI)牺牲层上生长氮化硅薄膜,讨论沉积温度、射频功率、反应气体流量比等工艺参数对氮化硅薄膜的生长速率、氮硅比、残余应力等性能的影响,得到适合制作接触式射频MEMS开关中悬梁的氮化硅薄膜的最佳工艺条件.
关键词:
PECVD
,
氮化硅
,
聚酰亚胺
,
残余应力
,
射频MEMS开关
李荣春
,
伊晓东
,
章小兵
,
黄传敬
,
翁维正
,
万惠霖
催化学报
考察了丙烷以及丙烷选择氧化反应的有关中间体或其探针分子(如丙烯、烯丙醇、异丙醇和正丙醇)和产物(如丙烯醛、丙酮和丙醛)在MoPO/SiO2催化剂上的反应行为,用以探明该催化剂上丙烷选择氧化制丙烯醛反应的可能路径.结果表明,异丙氧基是MoPO/SiO2催化剂上丙烷选择氧化制丙烯醛反应的主要中间体,异丙氧基脱β-H生成丙烯或脱α-H生成丙酮,而丙烯则经σ-氧烯丙基转化为丙烯醛.
关键词:
氧化钼
,
氧化硅
,
磷
,
丙烷
,
选择氧化
,
丙烯醛
,
反应机理
李志峰
,
于涛
,
谢金森
,
秦勉
原子核物理评论
以最新发布的ENDF/B-VII.1评价库为基础,使用SIGACE程序将低温ACE格式中子截面文件加工成较高温度的ACE格式文件,生成了一个与温度相关的中子截面文档。为校核截面数据,选取ICT、标准CANDU组件燃料温度反应性系数、LWR栅格多普勒系数以及SEFOR基准题对SIGACE加工的核数据进行了验证。基准题计算结果均与参考值符合较好,表明SIGACE生成的高温度ACE格式截面数据可用于反应堆相关中子学参数的计算。
关键词:
SIGACE
,
MCNP
,
连续能量点截面文档
,
基准检验