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硫脲对聚甲基丙烯酸甲酯基材化学镀铜的影响

, 俞丹 , 刘艳 , 王炜

电镀与涂饰

以硫脲为添加剂、硫酸铜为主盐、次磷酸钠为还原剂,在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基材表面进行化学镀铜.研究了添加不同质量浓度(0.10、0.25、0.50、0.75和1.00 mg/L)的硫脲对铜沉积速率、镀层导电性和结合力以及化学镀铜中氧化还原反应的影响,并通过扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)和X射线衍射(XRD)等方法分别对镀层微观形貌、组成成分、晶体结构进行了表征.结果表明,硫脲的加入主要影响铜(111)晶面的生长,能有效提高镀层与基体之间的结合力,但对镀层成分无太大影响.随着硫脲加入量的增大,铜沉积速率和镀层导电性先减后增,而镀铜速率主要由阴极还原过程控制.适宜的硫脲添加量为0.50 ~ 0.75 mg/L,此时铜沉积速率相对较低,所得镀层晶粒尺寸较小,表面电阻为40 ~ 50 mΩ/cm2,镀层结合力1~2级.

关键词: 聚甲基丙烯酸甲酯 , 化学镀铜 , 硫脲 , 次磷酸钠 , 沉积速率 , 导电性 , 极化曲线

壳聚糖/聚乙烯醇共混膜在织物化学镀中的应用

刘艳 , 俞丹 , , 高翠翠 , 王炜

应用化学 doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2015.02.140124

天然高分子壳聚糖(CS)与聚乙烯醇(PVA)共混后存在强烈的氢键作用能够促进二者相容,形成互穿网络(IPN)结构的CS/PVA二元共混膜.通过傅里叶红外(FT-IR)和强力测试对共混膜结构及拉伸强力性能进行了表征.利用掺杂少量氯化钯的CS与PVA共混液的成膜性能,在涤纶织物表面预制一层具有自催化活性的薄膜,并对经过处理后的涤纶织物进行化学镀镍研究.采用扫描电子显微镜(SEM)、热重分析(TG)、电磁屏蔽效能测试和水洗牢度测试,分别对织物表面形貌、热稳定性、电磁屏蔽性能和结合牢度进行测试.结果表明,CS与PVA共混液处理后的涤纶织物,经化学镀镍能获得表面均匀致密、导电性优良、与织物结合力良好的镀层.

关键词: 壳聚糖 , 聚乙烯醇 , 电磁屏蔽 , 化学镀 , 涤纶织物

拓荒钢铁情系中华——记近代中国钢铁工业的奠基者格先生

王同起

中国冶金 doi:10.3969/j.issn.1006-9356.2008.12.011

格先生是近代中国的政治家、实业家和教育家,曾倡导推进戊戌变法、创办汉冶萍有限公司,主持上海交通大学工作,还捐出巨额家产支持中国的高等教育事业.在冶金方面,他多次出国考察,改进炼钢设备,注重培养中国工程技术人员,创办了最早的冶金职业专门学校,并大胆改革钢铁企业用人和管理制度,是近代中国冶金业伟大的拓荒者和奠基人,为中国钢铁冶炼的近代化和民族工程技术人员的培育做出了重要贡献.

关键词: , 钢铁 , 拓荒

模板电沉积法制备一微米棒、纳米线阵列的研究

陈勇 , 吴龙 , 甘思文 , 朱瑾瑜 , 沈逸 , 陈安琪

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2009.03.002

通过采用不同类型的无机多孔膜作为模板以及恒电位模板电沉积法在一层厚度为300nm的碳膜上制备出一微米棒、纳米线及其阵列,并利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射(XRD)、能量分散谱(EDS)表征了该一微米棒、纳米线阵列的化学组成、结构和形貌.研究结果表明,采用多孔三氧化二铝膜作为模板,可以得到长度为5μm的一微米棒(直径200nm)阵列;采用无机复合介孔膜为模板,则得到一金纳米线(3~4nm)阵列,并通过控制沉积时间,可以调节纳米线的长度(400nm~3μm).

关键词: , 模板 , 电沉积 , 碳膜 , 纳米线

多晶硅薄膜晶体管阈值区准二模型

吴为敬

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2010.04.013

从准二泊松方程出发,结合多晶硅扩散和热发射载流子输运理论,建立了多晶硅薄膜晶体管阈值电流模型.由表面势方程及阈值电流方程求得包含陷阱态和晶粒尺寸的阈值斜率解析表达式.模型具有简明的表达式,并且在大晶粒和低陷阱态情形下可简化为传统长沟道MOSFET阈值区模型.仿真结果与试验数据符合得很好,验证了模型的正确性.

关键词: 多晶硅薄膜晶体管 , 阈值 , 准二

锗表面二波长结构的反应离子刻蚀制备

阳平 , 陈海波 , 刘正堂 , 武倩 , 郑倩 , 张淼 , 徐启远

材料科学与工艺

为了获得具有金字塔结构的二波长结构表面,提高其高宽比,用掩模曝光光刻及反应离子刻蚀技术,以SF6和02为反应气体,在Ge衬底上制备了二波长结构,用扫描电镜对刻蚀图形的形貌进行了观察,研究了功率、气压、气体流量及掩模图形对刻蚀图形的影响,结果表明:刻蚀图形腰部被优先刻蚀,形成凹陷的侧壁轮廓;02流量增大有利于在侧壁形成保护层,从而减小腰部刻蚀、增大顶部及根部刻蚀;功率及气压过大或过小均会使侧壁刻蚀较大;方形图案比圆形图案掩模更有利于刻蚀出深度较大的波长结构。

关键词: , 光刻 , 反应离子刻蚀 , 波长结构 , 掩模

反重力电诱导自组装构造二微米有序结构

, 周济 , 宗瑞隆 , 富鸣 , 龙土 , 桂治轮

功能材料

介绍了一种微米级聚苯乙烯微球悬浮液在外加电场下克服重力作用组装构造二有序晶体结构的方法,研究了在自组装过程中电压-电流的变化关系,以及该方法组装得到的二结构的紫外-可见光谱和微观结构.试验结果显示这是一种具有潜力的高效率制备大面积二有序晶体结构的方法.

关键词: 光子晶体 , 自组装 , 电诱导沉积

《金属学报》纪念薰奖金基金简章

金属学报

<正> 一、为纪念薰创办和主编《金属学报》,继承并发扬他毕生致力于科技进步的业绩,特设立《金属学报》纪念薰奖金基金.二、基金来源是乐于赞助的科研单位、高等院校、企业、团体的捐赠.基金属于专款,全部存入银行,每年支取利息,直接用于奖励.

关键词:

Ni微米柱阵列的制备及微结构研究

陈昶 , 张伟 , 陈建 , 刘春海 , 曾宪光 , 杨瑞嵩 , 王龙 , 蒲国

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.025

利用磁控溅射法在阳极氧化铝(AAO)模板上制备了 Ni 微米柱阵列,研究了不同退火温度对 Ni 微米柱阵列结构稳定性的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X 射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对不同退火温度下制备的Ni微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ni微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400 nm。经400℃退火后,开始形成Al1.1 Ni0.9和AlNi金属间化合物。500℃退火后,出现空心Ni微米柱,且Ni微米柱体积膨胀变粗。600℃退火后,Ni微米柱部分脱落。

关键词: AAO 模板 , 磁控溅射 , Ni微米柱阵列 , 晶体结构 , 表面形貌

新型三立体结构氧化石墨烯材料的制备及其对甲基蓝的吸附

武里鹏 , 刘淑娟 , 张伟强 , 孙蕾 , 马建国

功能材料 doi:10.3969/ji.ssn1.001-97312.0151.60.12

通过水热合成法,用植酸(phytic acid)与氧化石墨烯(graphene oxide)反应制备了一种三结构的石墨烯材料(PA‐GO )。利用扫描电子显微镜(SEM )、傅里叶‐红外光谱仪(IR)、X射线晶体衍射仪(XRD)对PA‐GO的形貌和结构进行表征,结果表明,该材料具有膨松的多孔状结构,有利于对有机物的吸附和回收。将其用于对甲基蓝的吸附,研究了吸附时间、溶液初始浓度和温度对吸附效果的影响。研究表明,吸附在45.h达到平衡,最大吸附量为927.mg/g ,且升高温度有利于 PA‐GO 对甲基蓝的吸附。Langmuir等温模型能够较好地描述PA‐GO对甲基蓝的吸附。

关键词: 植酸 , 氧化石墨烯 , 甲基蓝 , 吸附

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