黄柏仁
,
叶忠信
,
李世鸿
,
汪岛军
,
陈昆歧
新型炭材料
采用微波等离子体化学气相沉积系统存钛/硅基板上沉积类金刚石薄膜,并利用拉曼光谱仪、扫瞄式电子显微镜及原子力显微镜研究了氢等离子体前处理及快速退火后处理对类金刚石薄膜场发射特性之影响.在沉积类金刚石薄膜之前,钛/硅基板使用了两种前处理技术:第一种为研磨金刚石粉末,第二种为研磨金刚石粉末后外加氢等离子体刻蚀处理.成长类金刚石薄膜后进行快速退火处理.发现不论是氢等离子体前处理还是快速退火后处理皆能改善场发射特性,其中经退火后处理的场发射特性比氢等离子体前处理的场发射特性改善更明显.其因之一在于快速退火后处理可在类金刚石薄膜表而形成sp2丛聚,提供了很多的场发射子,也同时增加了表面粗糙度;另一个原因可能是在快速退火后处理期间会使类金刚石薄膜进一步石墨化,因而提供了许多电子在通过类金刚石薄膜时的传输路径.研究结果表明:利用适当的前后处理技术可改进类金刚石薄膜的场发射特性,进而做为冷阴极材料之应用.
关键词:
类金刚石
,
等离子体处理
,
快速退火
,
场发射
李世鸿
,
叶忠信
,
张永平
,
汪岛军
,
黄柏仁
新型炭材料
doi:10.1016/S1872-5805(08)60049-9
以化学气相沉积法成长多晶金刚石薄膜时,薄膜的品质会受到成长时间、成长压力、反应气体比例、偏压与否及成核的机制等因素影响.研究采用微波电浆辅助化学气相沉积(MPECVD)法,以甲烷(CH4)和氢气(H2)作为反应气体原料,在P型(111)硅基板沉积多晶金刚石薄膜.典型沉积多晶金刚石薄膜的制程可分为四个阶段:抛蚀表面阶段、渗碳阶段、偏压增强成核(BEN)阶段及成长阶段.研究将成长阶段划分为两个阶段,第一阶段压力较低(成长Ⅰ阶段),第二阶段压力较高(成长Ⅱ阶段).结果表明:第一阶段可大大改善金刚石薄膜的品质,所获多晶金刚石薄膜的晶粒具有明确的颗粒边界、较低的碳化物或缺陷,电导率急剧降低,显现出本徵金刚石半绝缘的性质.可以认为金刚石薄膜品质的改善完全为低压成长所致.实验发现在成长Ⅰ阶段或成长Ⅱ阶段施加偏压时,只会降低多晶金刚石薄膜的品质.
关键词:
多晶金刚石薄膜
,
微波电浆辅助化学气相沉积(MPECVD)
,
两段成长
,
偏压增强成核(BEN)
黄柏仁
,
叶忠信
,
汪岛军
,
谭振台
,
宋健民
新型炭材料
doi:10.1016/S1872-5805(08)60040-2
以阴极电弧法,分别于硅基材与铜纳米线(CuNWs)/硅基材(其中铜纳米线系阳极氧化铝(AAO)模板技术成长于硅基材上)沉积非晶碳膜,,分别以扫描电子显微镜(SEM)、原子力电子显微镜(AFM)和X光电子光谱仪(XPS)表征了非晶碳膜/铜纳米线/硅基材与非品碳膜/硅基材两者之表面形貌、粗糙度、结构及键结等物理特性.并比较两者之电子场发射特性.研究结果显示:两者都拥有低起始电场及高电流密度,其中非品碳膜/铜纳米线/硅基材的场发射起始电压为3.75 V/μm优于非品碳膜/硅基材的15 V/μm,因此非晶碳膜/铜纳米线/硅基材更适用于场发射平面显示器(FED)之发射子,可应用于高稳定性及低成本之场发射平面显示器之研发.
关键词:
场发射
,
非晶碳膜
,
铜纳米线(CuNWs)
,
阳极氧化铝(AAO)
杨万国
,
董秀彩
,
李少香
,
张波
涂料工业
doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2010.04.008
研究了空心玻璃微珠和纳米陶瓷材料等材料用量对军绿色隔热降温涂料热性能的影响,通过对多种着色颜料及其复配体系反射率的研究,优选出反射率较好的几种颜料,用它们调制出的军绿色降温涂料作为深色降温涂料具有较高的反射率,并且其他各项物理机械性能良好.
关键词:
隔热
,
降温
,
军绿色
,
反射率
,
发射率
周荣华
电镀与涂饰
介绍了军用汽车哑光军绿色面漆及其稀释剂的配制,着重探讨了军用汽车哑光军绿色面漆的施工工艺,分析了热固性丙烯酸树脂、环氧树脂、氨基树脂和聚酯树脂,氨基比、消光粉、分散剂、防沉剂和稀释剂对军用汽车哑光军绿色面漆性能的影响.结果表明,选用丁醚化三聚氰胺甲醛树脂作交联剂,氨基比为28.24:10.44时,面漆的综合性能最佳,满足技术指标要求.
关键词:
军用汽车漆
,
哑光
,
军绿色面漆
,
消光粉
,
氨基比
杨万国
,
李少香
,
王文芳
,
刘来运
,
刘光烨
涂料工业
doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2008.09.006
以降低帐篷内的温度为研究目的,通过对乳液、颜料、反射填料等的研究制备了一种隔热性能和耐候性能良好的水性帐篷用军绿色热反射涂料.该涂料涂装帐篷后可有效地降低帐篷表面温度10～12℃,降低帐篷内部温度6～8℃,同时兼具有防水、保温功能.
关键词:
帐篷
,
军绿色
,
热反射涂料
,
乳液
,
反射填料
,
反射率
罗亮
,
伊福廷
,
张菊芳
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.01.042
氯化铯纳米岛光刻技术是一种分子自组装光刻技术,该技术利用氯化铯在一定湿度下的自组装特性来形成具有一定尺寸和分布的原始氯化铯纳米岛结构,通过调整工艺条件可以适度控制氯化铯岛结构的尺寸和覆盖率.氯化铯岛结构的尺寸和覆盖率主要取决于氯化铯薄膜厚度、显影时间和相对湿度,其中膜厚的影响最大.通常在其他条件不变的情况下,薄膜越厚覆盖率越高,而显影时间越长覆盖率则可能越低.在厚度、相对湿度一定的情况下,显影时间较短时,岛结构以小直径为主,随着时间增加,该结构直径分布变得均匀,并且以大直径为主,两者都大致符合高斯分布.
关键词:
纳米岛
,
自组装技术
,
NEMS
,
纳米加工技术
张馥
,
曾琳
,
王光明
,
石磊
,
石璐丹
电镀与涂饰
提出了一种镀锌层四酸型军绿色钝化工艺.研究了钝化液中4种酸的含量和钝化时间对钝化膜外观和耐蚀性的影响.确定最佳工艺条件为:CrO3 6 g/L,H3PO4 2 mL/L,H2SO4 2 mL/L,H3NO3 3 mL/L,温度25℃,pH 1.5,钝化时间100s.所得钝化膜为光亮的军绿色,耐蚀性较镀锌层好.
关键词:
镀锌层
,
钝化
,
军绿色
,
耐蚀性
