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用于SiC晶体生长的高纯原料的合成及性能研究

高攀 , 刘熙 , 严成锋 , 忻隽 , 陈建军 , 孔海宽 , , 施尔畏

人工晶体学报

SiC原料的纯度、粒径和晶型直接影响生长单晶的结晶质量和电学性质,尤其是高纯半绝缘本征SiC晶体的制备需要使用高纯SiC原料.本文采用超高温真空烧结炉,选择Si粉和C粉作为反应物,通过XRD、SEM、激光粒度测试仪和GDMS等测试手段研究了合成温度、压强、时间及原料配比等工艺条件对SiC颗粒成核、生长、晶型、粒径及堆积密度等综合性能的影响.结果表明,自合成的SiC原料一致性好、颗粒度均匀、纯度达到或超过5N.最后,使用自合成原料进行晶体生长,进一步证实其完全满足高质量半绝缘SiC晶体的制备.

关键词: SiC晶体 , 原料 , 粒径 , 堆积密度

近化学计量比铌酸锂晶体组分过冷与临界生长速率研究

, 施尔畏 , 王绍华 , 陈辉 , 卢网平 , 孔海宽 , 陈建军 , 路治平

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.04.001

本文在用双坩埚提拉法生长近化学计量比LiNbO3晶体的过程中观察到了组分过冷的实验数据,同时根据Tiller-Chalmers稳定性判据公式半定量计算了近化学计量比LiNbO3晶体临界生长速率的理论值,得到一般电阻加热双坩埚提拉法生长近化学计量比LiNbO3晶体的临界生长速率为0.1mm/h数量级.通过临界生长速率解释了一系列晶体生长的实验结果.提出了一些工艺措施来避免组分过冷,根据这些工艺获得了无包裹体的近化学计量比LiNbO3晶体.

关键词: 双坩埚提拉法 , 近化学计量比 , 临界生长速率 , 组分过冷

高均匀性高掺镁铌酸锂晶体的生长与表征

涂小牛 , , 陈辉 , 孔海宽 , 忻隽 , 曾一明 , 施尔畏

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.01257

采用提拉法生长了高掺镁铌酸锂晶体, 并采用高温极化法使晶体单畴化. 为研究晶体的成分均匀性、光学均匀性及铁电畴均匀性, 采用光谱、激光干涉、电子探针、显微观察等表征手段测定与观察了晶体的紫外吸收边、OH吸收峰、折射率梯度Δn、晶体径向上的微观成分及晶体的铁电畴结构. 结果表明: 通过采用合适的生长组分和改进提拉法生长工艺获得了高质量的高掺镁铌酸锂晶体. 晶体的紫外吸收边位于308 nm附近, OH吸收峰位于高抗光损伤阈值特征峰2828 nm处, 光学均匀性达Δn< 5.11×10-5. 在1200℃下通过外加电场极化获得了高均匀性且完全单畴的铁电畴结构.

关键词: 高掺镁铌酸锂晶体 , UV absorption edge , OH absorption peak , domain structure , optical homogeneity

Si3N4 晶体的压电性能第一性原理研究

曾一明 , , 忻隽 , 孔海宽 , 陈辉 , 涂小牛 , 施尔畏

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00180

Si3N4是一种具有多种优越物化性能的多功能材料. 采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算对Si3N4的高低温相(β、α)进行了对比研究. 对于α相, 计算得晶格常数 a =0.7678nm、 c =0.5566nm, 弹性刚度系数 c 11 = 4.232×1011N/m2c 33 =4.615×1011N/m2,压电应变常量 d 33 =0.402pC/N;而对于β相, a =0.7536nm、 c =0.2874nm,弹性刚度系数 c 11 =4.241×1011N/m2c 33 =5.599×1011N/m2,压电应变常量则几乎为零. 分析表明Si3N4的α、β两相均为高硬高强材料, 这与其结构由四面体组成的网络架构有关. 而Si3N4高低温相的压电性能都很差, 特别是β相的压电系数几乎为零, 这与其结构的对称性有关, 高温相结构的对称性更高, 形变引起的离子位移响应抵消更多.

关键词: Si3N4 , piezoelectricity , first-principles , crystal structure

高均匀性高掺镁铌酸锂晶体的生长与表征

涂小牛 , , 陈辉 , 孔海宽 , 忻隽 , 曾一明 , 施尔畏

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.01257

采用提拉法生长了高掺镁铌酸锂晶体,并采用高温极化法使晶体单畴化.为研究晶体的成分均匀性、光学均匀性及铁电畴均匀性,采用光谱、激光干涉、电子探针、显微观察等表征手段测定与观察了晶体的紫外吸收边、OH吸收峰、折射率梯度Δn、晶体径向上的微观成分及晶体的铁电畴结构.结果表明:通过采用合适的生长组分和改进提拉法生长工艺获得了高质量的高掺镁铌酸锂晶体.晶体的紫外吸收边位于308nm附近,OH吸收峰位于高抗光损伤阈值特征峰2828 nm处,光学均匀性达Δn<5011×10-5.在1200℃下通过外加电场极化获得了高均匀性且完全单畴的铁电畴结构.

关键词: 高掺镁铌酸锂晶体 , 紫外吸收边 , OH吸收峰 , 畴结构 , 光学均匀性

Si3N4晶体的压电性能第一性原理研究

曾一明 , , 忻隽 , 孔海宽 , 陈辉 , 涂小牛 , 施尔畏

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00180

Si3N4是一种具有多种优越物化性能的多功能材料.采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算对Si3N4的高低温相(β、α)进行了对比研究.对于d相,计算得晶格常数a=0.7678nm、c=0.5566nm,弹性刚度系数C11=4.232×1011N/m2、c33=4.615×1011N/m2,压电应变常量d33=0.402pC/N;而对于β相,a=0.7536nm、c=0.2874nm,弹性刚度系数c11=4.241×1011N/m2、C33=5.599×1011N/m2,压电应变常量则几乎为零.分析表明Si3N4的α、p两相均为高硬高强材料,这与其结构由四面体组成的网络架构有关.而Si3N4高低温相的压电性能都很差,特别是β相的压电系数几乎为零,这与其结构的对称性有关,高温相结构的对称性更高,形变引起的离子位移响应抵消更多.

关键词: Si3N4 , 压电性能 , 第一性原理 , 晶体结构

高温闪烁晶体Ce∶LSO的生长研究

崔素贤 , , 施尔畏 , 路治平 , 仲维卓

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2002.06.001

Ce∶LSO晶体具有优良的闪烁性能,其主要特点是光产额大、发光衰减时间快、密度大、有效原子序数大、辐射长度短、发射峰与光电倍增管的接收范围相匹配,在γ射线探测方面有着广泛的应用.我们用提拉法生长了不同掺杂浓度的Ce∶LSO晶体,成功地解决了在生长过程中出现的晶体开裂及籽晶熔断问题,并对晶体生长过程中的表面重熔、晶体着色及Ce的偏析等现象作了讨论.荧光光谱分析表明晶体最大激发波长为353nm,发射峰由391nm和425nm处两个峰组成,吸收谱则显示晶体在209~370nm之间具有多个吸收峰.

关键词: Ce∶LSO , 闪烁晶体 , 提拉法 , 激发发射谱

氧化物晶体的成核机理与晶粒粒度

李汶军 , 施尔畏 , , 陈之战 , 殷之文

无机材料学报

从微观动力学角度研究了晶粒的成核机理,认为晶粒的成核机理主要包括生长基元的形成,生长基元之间的氧桥合作用和O桥转变为OH桥.并从成核速度角度分析了影响晶粒粒度的主要原因,揭示了影响晶粒粒度的内部原因为生长基元的生成能、晶体的晶格能.由此总结出不同结构类型的氧化物粉体的晶粒粒度的相对大小.即具有CaF或TiO结构的氧化物粉体的晶粒粒度比具有α-Al结构的氧化物粉体的晶粒粒度小,具有α-Al3结构的氧化物粉体的晶粒粒度比具有六方ZnS结构的氧化物粉体的晶粒粒度小.合理地解释了由水热法制得的氧化物粉体的晶粒粒度差别较大的原因以及溶液的pH值、反应温度对晶粒粒度的影响.

关键词: 成核机理 , particle size , hydrothermal method

BaTiO3,CeO2和NaCl晶体的生长习性

李汶军 , 施尔畏 , , 吴南春 , 殷之文

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.1999.04.014

在各种晶体的结构类型中BaTiO3、CeO2和NaCl晶体的结构相对比较简单,但是它们的生长习性一直得不到合理的解释.如PBC理论很难合理解释BaTiO3、NaCl和CeO2晶体的生长习性及习性变化.本文采用配位多面体生长习性法则研究了BaTiO3晶体,CeO2晶体和NaCl晶体的理论生长习性.发现BaTiO3晶体的生长习性为立方八面体;CeO2晶体的生长习性为立方体;NaCl晶体的生长习性为八面体,解释了溶液的过饱和度对NaCl晶体的生长习性的影响.

关键词: BaTiO3晶体 , CeO2晶体 , NaCl晶体 , 水热法 , 生长习性

TiO2和α-Al2O3晶体的生长习性

李汶军 , , 施尔畏 , 陈之战 , 殷之文

无机材料学报

通过水热法制备粉体的实验观察到金红石、锐钛矿和а-Al晶体的生长习性.采用配位多面体生长习性法则合理地解释了TiO和а-Al的生长习性.其主要结果为а-Al晶体的生长习性为平板{0001},其各晶面的生长速度为:{0001}{1123}{0112}{1120}{0110}。金红石的生长习性为柱状,其各晶面的生长速度为:<110><100><101><001><111>;锐钛矿的生长习性为四面体,其各晶面的生长速度为<010><001><010><111>.而PBC理论很难合理地解释α-Al晶体的生长习性.

关键词: TiO2 , α-Al2O3 , growth habit , hydrothermal method

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