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D40M埋弧焊丝改进研究

王明林 , 谢迪明 , 王君民 , 张成杰

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2006.02.004

适当增加D40M埋弧焊丝中C、Cu的含量,解决了该埋弧焊丝与705-ch焊剂配用时出现的熔敷金属低温韧性偏低和焊丝镀铜的问题,保证了D40M埋弧焊丝生产供货的合格率.

关键词: 埋弧焊丝 , 熔敷金属 , 韧性

某些D/M非对称膜系的透光特性

俞善庆 , 张小平 , 马敏伟

材料研究学报

透明薄膜是一种光谱选择性材料,探明该膜系的光谱选择度,对于开发新型能源材料具有重要意义。作者研究了在Al 和Ag 基膜上分别沉积SiO,SnO_2,CeO_2,ZnS 和CdS 介质膜,组成D/M 非对称膜系,测定了它们在320—1000nm 波长范围内的光谱透过率。证明各种介质膜对于金属基膜光谱选择度的影响基本相似,但对于透过率峰值的影响却明显不同;一般说来,介质膜对于Ag 膜的光谱透过率会产生较大的增益,而且介质膜愈厚,增透性愈好。实验结果表明,采用D/M 非对称膜系,有可能研制出光谱选择度满意的透明热反射镜材料。

关键词: 光谱透光性 , transparent heat-mirror films , unsym-metrical optical systems

溅射工艺对D/M/D结构中SiNx介质膜光学常数的影响

孙瑶 , 汪洪

航空材料学报 doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2015.4.005

采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响.结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300~ 2500nm波长范围内符合正常色散关系.椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数.按此工艺制备的SiNx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17%提高至55.01%,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12%.

关键词: SiNx膜 , Ag膜 , 折射率 , 椭偏仪 , 透光率

A Novel near Net-Shape Technique for P/M Parts with Large H/D Ratio

Yong LIU , Baiyun HUANG , Kechao ZHOU , Hongwu OUYANG , Yuehui HE

材料科学技术(英文)

In order to overcome the shortcomings of conventional hot pressing, a novel near net-shape technique, called radial hot pressing, for P/M parts with large height-to-diameter (H/D) ratio was introduced. Effects of processing parameters on the microstructures and density of P/M TiAl base alloy valves were studied. Results show that the radial hot pressing is an effective technique for manufacturing valves with a H/D ratio of about 10:1, and the perfect joint interface between the Mo sheet and the parts is helpful for subsequent HIPing.

关键词: Near net-shape technique , null , null

D2、M2、S5模具扁钢脱碳特性实验研究

赵德文 , 郭长武 , 刘相华 , 王国栋 , 徐辉 , 戴建明

钢铁

开展了在空气和氮气两种气氛下,采用Gleeble-1500热模拟机与普通电炉两种加热方式、不同加热温度、加热时间对D2、M2、S5钢脱碳层深度影响的试验研究。依据试验结果,结合现场实际制定了较为合理的生产工艺并在现场成功应用,使上述模具扁钢脱碳层指标达到了美国ASTM-A681技术标准。

关键词: 脱碳层深度 , 模具扁钢 , ASTM-A681

1200m3/d电镀废水膜法回收工程

楼永通 , 宋伟华 , 罗菊芬 , 吕海峰 , 王寿根 , 徐荣安 , 贺持缓 , 李国良 , 陶维正

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2004.05.010

在中试基础上建立1200 m3/d电镀镍漂洗水膜法回收工程,采用三级膜分离技术浓缩电镀废水并回收水和镍.一级处理量50 m3/h,浓缩10倍;二级处理量5 m3/h,浓缩5倍;三级处理量1m3/h,浓缩2倍以上,共浓缩100倍以上.一级膜分离系统对镍的截留率为98%;二级、三级膜分离系统对镍截留率均在99%以上.从2001年1月至2002年12月,共运行了2年.三级膜分离系统的通量均有不同程度的下降,一级下降约20%,二级下降约25%,三级下降约40%.整个系统运行良好,基本上实现了电镀废水的资源化.

关键词: 电镀废水 , 膜分离技术 , 截留率 , 通量

复合γ-Fe2O3/M(M=Pt/Pd)纳米磁敏催化剂超声制备与表征

贺全国 , 刘军 , 胡蓉

稀有金属材料与工程

采用焙烧法制备γ-Fe2O3之后,再利用3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)对其表面进行功能化修饰,在其溶液体系中加入氯铂酸/氯化钯溶液,使游离的四价铂粒子/二价的钯离子吸附在磁性纳米粒子表面,与氨基化基团形成配位化合物,在超声化学作用下,利用水合肼将铂离子和钯离子还原为单质,制成γ-Fe2O3/M(M=Pt/Pd)复合磁敏催化剂纳米粒子.并采用Bruker Advanced-D8粉末衍射仪,带有选区电子衍射(SAED)的透射电子显微镜(TEM),高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和带有超导量子干涉装置(SQUID)功能的磁性测量系统(MPMS)等对γ-Fe2O3粒子和y-Fe2O3/M复合粒子磁性进行表征.结果表明:采用焙烧法制备的γ-Fe2O3磁性纳米粒子粒径在20 nm左右,制备的γ-Fe2O3/Pt和γ-Fe2O3/Pd复合粒子粒径分别在68和36 nm左右,室温下的磁化强度分别为29.4和31.2 (A·m2)/kg,磁响应性能优越,可用于磁敏催化剂反应体系.这为贵金属Pt、Pd催化剂的回收与磁敏催化剂应用提供了新的思路.

关键词: γ-Fe2O3 , γ-Fe2O3/Pt复合粒子 , γ-Fe2O3/Pd复合粒子 , 超声化学 , 磁敏催化剂

高氮含能配合物M(ATZ)(bpy)m·nH2O液相生成反应的热动力学

周春生 , 范广 , 陈三平 , 高胜利

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2009.04.011

合成了6种固态高氮含能配合物M(ATZ)(bpy)m·nH2O((1)M=Mn,m=2,n=3;(2)M=Co,m=2,n=7;(3)M=Ni,m=2,n=0;(4)M=Cu,m:1,n=0;(5)M=Pb,m=1,/7,=3;(6)M=Zn,m=1,n=1;ATZ=5,5'-偶氮四唑,bpy=2,2'-联吡啶).对它们的结构和性能进行了表征.用RD496-CK2000微热量计测定了298.15 K下各配合物的液相生成反应焓变分别为:△rHc(1)=241.245 4-0.060 kJ/mol,△rHθ≠(2)=-256.875±0.050 kJ/tool,△rHθm.(3)=-265.172±0.038 kJ/mol,△rHθm:(4)=-236.538±0.038 kJ/tool,△rθm(5)=-249.698±0.038 kJ/mol,△rθm(6)=-185.072±0.048 kJ/tool.通过试验测定得到的所有液相反应的△rθm均为负值,有利于目标物生成;并改变反应温度,研究了它们的液相生成反应的热动力学.改变温度研究了液相生成反应的热动力学,利用反应热化学数据和动力学方程结合热动力学实验数据计算了活化焓(△Hθ≠)、活化熵(△Sθ≠)、活化自由能(△Gθ≠)、表观反应速率常数(k)、表观活化能(E)、指前常数(A)和反应级数(N).

关键词: 高氮含能配合物 , 液相生成反应 , 热动力学

(Ba,Mg,Sr)O·nAl2O3:M(n=4.6,M=Ce,Tb)的合成及发光性质研究

张忠义 , 沈雷军 , 李晓丽 , 韩莉 , 周永勃 , 陶冶 , 徐建华 , 黄艳

功能材料

采用高温固相反应合成(Ba,Mg,Sr)O·nAl2O3:M(n=4.6,M=Ce,Tb)发光材料.经X射线衍射分析,属六方晶系,与JSPDS标准卡完全一致.用同步辐射实验室真空紫外光谱站设备进行了光谱分析,在(Ba,Mg,Sr)O·nAl2O3:Ce(n=4.6)的激发光谱中,产生160nm和260nm的激发峰,分别由基质和铈离子的吸收引起的.在(Ba,Mg,Sr)O·nAl2O3:Tb(n=4.6)的激发光谱中,产生160、190和234nm的激发峰,其中160nm和234nm的激发峰是宽带峰,分别是由基质吸收和铽离子的4f-5d吸收引起的;190nm峰是铽离子的特征吸收引起的.由于铽离子的特征吸收和基质吸收产生较大的交迭,因此基质对铽离子具有能量传递.

关键词: 固相合成 , 真空紫外光谱 , 能量传递

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