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廖侹乔 , 刘宏 , R. HUSSIN , Z. IBRAHIM , K. DERAMAN , H.O.LINTANG , W.N.W SHAMSURI

稀土学报(英文版) doi:10.1016/S1002-0721(14)60573-1

关键词:

铜与硅之间W/Mo-N薄膜的扩散阻挡层性能

宋双喜 , 刘玉章 , 毛大立 , 李明

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.02.015

研究了铜与硅之间W/Mo-N薄膜的扩散阻挡性能.在Si(100)基片上利用反应溅射沉积一层Mo-N薄膜,然后再利用直流溅射在Mo-N上面沉积Cu/W薄膜.样品在真空下退火,并利用四点探针、X射线衍射分析、扫描电镜分析、俄歇电子能谱原子深度剖析等测试方法研究了Cu/W/Mo-N/Si的热稳定性及W/Mo-N薄膜对铜与硅的扩散阻挡性能.实验分析表明,Cu/W/Mo-N/Si结构具有非常好的热稳定性,在600℃退火30min仍未发生相变,并能有效的阻挡铜与硅之间的扩散.

关键词: W/Mo-N , 扩散阻挡层 , 溅射 , 热稳定性

多弧离子镀Ti-W-N多元多层膜的研究

曾鹏 , 胡社军 , 谢光荣 , 黄拿灿 , 吴起白

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.03.009

采用Ti/W复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-W -N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti, W)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TiyW1-y )N/(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和极低的孔隙率,在800 ℃具有很好的抗氧化性能.在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.

关键词: 多弧离子镀 , Ti-W-N多元膜 , 多层膜 , 组织与性能

化学复合镀(Ni-W-P)-Si3N4工艺研究

杜克勤 , 葛润洲 , 高玉周

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2004.02.003

采用化学复合镀方法,制备了(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层;研究了镀液组成及工艺参数对镀层成分和沉积速率的影响;采用X-射线衍射分析了复合镀层表面相结构,并对复合镀层的耐蚀性及耐磨性进行了测试分析.试验结果表明:Si3N4纳米颗粒的加入影响了镀层的沉积速率,提高了沉积层的耐磨性;(Ni-W-P)-Si3N4复合沉积层仍具有与Ni-W-P沉积层相近的优异性能.

关键词: 化学复合镀 , (Ni-W-P)-Si3N4复合镀层 , 相结构

电沉积(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层及性能研究

宋振兴 , 姚素薇 , 王宏智 , 张卫国

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2007.02.005

采用电沉积方法,在Ni-W-P合金中复合Si3N4微粒,获得(Ni-W-P)-Si3N4复合镀层.研究了镀液中Si3N4质量浓度、电流密度以及搅拌速度等工艺条件对复合镀层中Si3N4质量分数的影响.X-射线衍射、扫描电子显微镜测试结果表明:Si3N4微粒在镀层中均匀分布,与Ni-W-P合金各自在特定的角度出现衍射特征峰,彼此之间互不干扰.随着镀层中Si3N4质量分数的增加,镀层的性能均按照一定的规律发生变化.当Si3N4的质量分数为最大值10.3%时,镀层性能在各组实验比较中均最优,耐磨性能最好.

关键词: 电沉积 , (Ni-W-P)-Si3N4复合镀层 , 耐磨性

信道为W态的N粒子任意未知态的概率传送

修晓明 , 高亚军 , 董莉

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2006.06.014

提出一种N粒子任意未知态的表述形式.应用这种表述形式,提出一个以N组三粒子W态的直积态作为信道的N粒子未知态的隐形传送方案.通过Alice的Bell基测量和Bob的计算基测量及幺正变换,实现N粒子任意未知态的概率传送.这种方案成功实现的概率为(2/3)N.

关键词: 量子光学 , 量子隐形传送 , 概率传送 , W态

METASTABLE CHARACTERISTICS OF β-W

HUANG Huimin CHEN Xinmin Central South University of Technology , Changsha , China HUANG Huimin Associate Professor , Department of Chemistry , Central South University of Technology , Changsha , China

金属学报(英文版)

The nature of the oxygen contained in β-W was investigated with DSC,X-ray analysis on quenched samples and Auger spectroscope.It was shown that the oxygen contained in nonpyrophoric β-W consists of the reversibly chemisorbed oxygen and the interstitial oxygen which could form an interstitial solid solution with β-W.It seems better to consider β-W to be a metastable phase of tungsten with the interstitial oxygen as stabilizer.

关键词: tungsten , null , null , null

WN/W难熔栅自对准增强型n沟道HFET

刘伟吉 , 曾庆明 , 李献杰 , 敖金平 , 赵永林 , 郭建魁 , 徐晓春

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.015

发展了WN/W难熔栅自对准工艺.WN/W栅在850oC下退火,保持了较好的形貌.在此工艺基础上研制出了适用于互补逻辑电路的增强型n沟道异质结场效应晶体管.在1×50μm的HFET中,实现了最大跨导约为56mS/mm,阈值电压为3.5V.与p型HFET的-3V的阈值基本对称.反向击穿电压为4～5V.

关键词: WN/W , 难熔栅 , CHFET , HIGFET

(Ti,Mo,W,Ta,V,Nb)(C,N)多元陶瓷相的价电子结构

许育东 , 刘宁 , 石敏 , 陈名海

硅酸盐通报 doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2005.02.002

运用固体与分子经验电子理论(EET理论)计算了(Ti,Mo,W,Ta,V,Nb)(C,N)多元陶瓷相的价电子结构.结果表明,价电子结构参数(nA)随碳化物添加量的增加而增加.不同碳化物对价电子结构参数的影响不同,其中VC的影响最为显著.价电子结构参数(nA)可以用来评价金属陶瓷的力学性能,提出了相关的判据关系式.

关键词: 价电子结构 , 多元陶瓷相 , 碳化物 , 力学性能

Al含量对(V,W,Al)N复合膜微观组织和抗氧化性能的影响

喻利花 , 王杰 , 许俊华

材料热处理学报

采用多靶磁控溅射仪,制备不同Al含量的(V,W,Al)N复合膜.利用X射线衍射仪、纳米压痕仪和热处理炉及热失重分析仪对(V,W,Al)N复合膜的微观组织、力学性能及高温抗氧化性能进行表征.结果表明:当Al含量低于14.86 at％时,(V,W,Al)N复合膜存在面心立方结构(V,W)N、WN相及六方结构V2N相,当Al含量高于14.86 at％时,薄膜存在面心立方结构(V,W)N、WN相及六方结构V2N和AlN相;随Al原子百分含量的增加,复合膜的硬度呈先增大后减小的趋势,当Al原子百分含量达到14.86 at％时,其硬度最大值为35.5 GPa;随Al含量的增加,(V,W,Al)N复合膜抗氧化性能提高了至少200 ℃.讨论Al含量对(V,W,Al)N复合膜性能的影响.

关键词: (V,W,Al)N复合膜 , 微观组织 , 力学性能 , 抗氧化性能