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非晶含氟聚合物薄膜的热稳定性

, 王鹏飞 , 张剑云 , 张卫 , 王季陶 , 张冶文 , 夏钟福

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2001.02.008

以Teflon AF 1600为原料,用旋涂法制备了非晶含氟聚合物(AF)薄膜通过扫描电镜(SEM)、傅立叶转换红外(FTIR)光谱和X射线光电子(XPS)光谱等手段对热退火前后的薄膜进行了表征.所得薄膜具有无针孔,较光滑和平整的表面,300℃退火后薄膜表面的均匀性进一步改善.AF薄膜在300℃以下具有良好的热稳定性,在400℃退火后CF3吸收峰强度稍有降低.在400 ℃退火后,其所含的CF3键合构型显著降低,CF2、CF等其它构型没有明显的变化,由于CF3基剖的分解有少量无定型碳生成

关键词: 旋涂 , AF薄膜 , 热稳定性

低介电常数含氟氧化硅薄膜的研究

, 张卫 , 王鹏飞 , 张剑云 , 刘志杰 , 王季陶

功能材料

综述了近十年来低介电常数含氟氧化硅薄膜的研究状况,详细介绍了该薄膜在化学键结构、热性质、湿稳定性以及介电常数四个方面的特性,同时也简单介绍了薄膜的台阶覆盖度、填隙能力和漏电流特性,指出含氟氧化硅薄膜是一种可用于集成电路中的极富应用前景的低介电常数材料.

关键词: 含氟氧化硅 , 薄膜 , 低介电常数 , 化学气相淀积

原子层淀积 Al2O3薄膜的热稳定性研究

卢红亮 , 徐敏 , , 任杰 , 张卫

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01217

以Al(CH3)3和H2O为反应源, 在270℃用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜. 采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立 叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究. 结果表明刚淀积的薄膜中含有少量Al--OH基团, 高温退火后, Al--OH基团几乎消失, 这归因于Al--OH基团之间发生反应而脱水. 退火后的薄膜中O和Al元素的相对比例(1.52)比退火前的(1.57)更接近化学计量比的Al2O3. FTIR分析表明, 在刚淀积的Al2O3中有少量的--C 3存在, --CH3含量会随热处理温度的升高而减少. 此外, 在高温快速热退火后, Al2O3薄膜的表面平均粗糙度(RMS)明显改善, 900℃热退火后其RMS达到1.15nm.

关键词: Al2O3薄膜 , atomic layer deposition , X-ray photoemission spectroscopy (XPS)

紫外辐照对超低介电常数SiCOH薄膜组成与机械性能的影响

付爽 , 胡龙龙 , 孟庆伟 , , 范仲勇

功能材料

采用紫外光辐照超低介电常数多孔SiCOH薄膜,研究不同照射时间对薄膜结构和性能的影响。采用动态纳米压入技术测量薄膜的力学性能,发现随照射时间增加,薄膜的模量(Er)和硬度(H)不断提高。当辐照时间增至6h时,薄膜力学强度分别达到Er约7.4GPa,H约1.0GPa。傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、X射线光电子能谱(XPS)分析表明紫外辐照处理能够使薄膜样品中发生键的断裂与重新结合,从而改变了薄膜骨架的交联密度和刚性,进而提高力学性能。但介电性能并未受到明显影响,紫外辐照6h后,k值仅从2.0增至2.2。

关键词: 紫外辐照 , 多孔SiCOH薄膜 , 力学性能 , 低介电常数

硼磷酸钇基质中Ce3+、Tb3+、Gd3+的发光及能量传递

, 张卫 , 徐宝庆 , 王季陶

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2000.03.005

用BPO4和稀土氧化物为原料,首次合成了铈、铽、钆共激活的硼磷酸钇绿色荧光粉,研究了基质中Ce3+、Tb3+、Gd3+的发光以及它们之间的相互作用.该基质中存在Ce3+→Tb3+、Gd3+→Tb3+的能量传递,以及Ce3+和Gd3+之间的竞争吸收和独自发射.在铈、铽共激活的硼磷酸钇体系中掺入钆后,Ce3+的发射以及Tb3+的5D4→7FJ和5D3→7FJ的发射均增强,但总的效果是Gd3+阻碍了Ce3+→Tb3+的能量传递.基质中钇全部被钆代替后,荧光粉的发光亮度增加,光纯度也较好,发光色坐标X值稍变小.

关键词: 硼磷酸钇 , 发射光谱 , 激发光谱 , 能量传递

La(BO3,PO4):Ce,Tb,Gd的发光研究

, 张卫 , 徐宝庆 , 王季陶

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.01.005

以BPO4和稀土氧化物为原料制备了铈、铽、钆共掺杂的硼磷酸镧绿色荧光粉,研究了基质中Gd3+、Ce3+、Tb3+的发光特性及它们之间的相互作用。在该基质中存在Ce3+→Gd3+、Gd3+→Tb3+、Ce3+→Tb3+的能量传递;当钆加入到铈、铽共掺杂的硼磷酸镧基质中会导致铈离子的发射减弱,铽离子5D4→7FJ的发射显著增强,而5D3→7FJ的发射没有明显变化,故有利于提高荧光粉的发光强度和绿色发射纯度。用硼磷酸钆作基质比用硼磷酸镧更能提高荧光粉的发光强度、发光纯度以及发光色坐标x的值,所以La(BO3,PO4):Ce,Tb,Gd和Gd(BO3,PO4):Ce,Tb均是理想的绿色发射材料。

关键词: La(BO3,PO4):Ce,Tb,Gd , 磷光体 , 激发光谱 , 发射光谱 , 能量传递

PECVD法淀积氟碳掺杂的氧化硅薄膜表征

, 张庆全 , 张卫 , 王季陶

无机材料学报

以正硅酸乙酯(TEOS)和八氟环丁烷(C4F8)为原料,采用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)方法制备了氟碳掺杂的氧化硅薄膜(SiCOF).样品的X射线光电子能谱(XPS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析表明薄膜中含有Si-F、Si-O、C-F、C-CF、CF2等构型.刚淀积的薄膜的折射率约为1.40.对暴露在空气中以及在不同温度下退火后薄膜的折射率做了测量,并对其变化机理进行了讨论,同时表明了理想的淀积温度应是300℃.

关键词: 等离子体增强化学气相淀积 , SiCOF film , XPS , FTIR , refractive index

蒸发淀积Al和Teflon AF薄膜间的相互作用

, 王鹏飞 , 张卫 , 王季陶 , 张台文 , 夏钟福

金属学报

通过X-射线光电子光谱(XPS),研究了蒸发淀积Al与Teflon AF薄膜间的相互作用.高分辨率Al2p,Ols,Cls和Fls XPS光谱分析表明在Al和Teflon AF界面处有AI的氟化物(AlxFy)以及C-O-Al有机化合物的形成.考虑到蒸发淀积Al前后,CF3基团降低和CF2基团增加,可以认为AlxFy中氟的来源主要是由于CF3基团中一个C-F键断裂而失去的氟原子,同时产生的CF2游离基和其它游离基间结合,导致界面处CF2基团增加.

关键词: Al , null , null , null , null

CVD金刚石薄膜(111)与(100)取向生长的热力学分析

张剑云 , 王鹏飞 , , 张卫 , 王季陶 , 刘志杰

功能材料

用非平衡热力学耦合模型计算了CVD金刚石薄膜生长过程中C2H2与CH3浓度之比[C2H2]/[CH3]随衬底温度和CH4浓度的变化关系,从理论上探讨了金刚石薄膜(111)面和(100)面取向生长与淀积条件的关系.在衬底温度和CH4浓度由低到高的变化过程中,[C2H2]/[CH3]逐渐升高,导致金刚石薄膜的形貌从(111)晶面转为(100)晶面.添加氧后C2H2与CH3浓度都将下降,但C2H2下降得更多,因而添加氧也使[C2H2]/[CH3]下降,从而有利于生长(111)晶面的金刚石薄膜.

关键词: 化学气相淀积 , 金刚石薄膜 , 热力学

原子层淀积Al2O3薄膜表面自组装Au纳米颗粒及其热稳定性

黄玥 , 廖忠伟 , 苟鸿雁 , , 张卫

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2009.01.003

在原子层淀积的A12O3薄膜表面自组装生长Au纳米颗粒,研究了Au纳米颗粒的自组装过程和热稳定性,结果表明,原子层淀积的A12O3薄膜表面很容易吸附氨丙基三甲基硅烷(APTMS),有利于Au纳米颗粒的自组装,生长出的Au纳米颗粒尺寸为5-8 nm,密度约为4x1011cm-2,在300℃氮气中退火使Au纳米颗粒的尺寸增大,但是没有改变APTMS的吸附状态和Au的化学组成.当退火温度提高到450℃时,Au纳米颗粒发生明显的团聚,且分布变得极不均匀.

关键词: 金属材料 , 化学自组装生长 , Au纳米颗粒 , 热稳定性

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