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宝钢厚板厂滚切式双边剪剪切质量的改善

贾斌 , 彭艳 , 之光 , 王磊 , 张向葵

钢铁

结合厚板厂实际生产,针对剪切工艺参数和设备运行状态对剪切质量的影响,分析了剪切缺陷"毛刺"和"错刀"的产生原因,确定主要影响因素为剪刃间隙和钢板跑偏.用Matlab工具箱回归出最佳剪刃间隙与板厚的经验公式,通过现场跟踪测试明确了夹送辊调整状态对钢板跑偏的影响规律.基于以上研究结果制定了相应的调整和控制策略,并进行了现场跟踪对比实验验证,效果良好,适用于宝钢厚板厂滚切式双边剪剪切质量的改善,对其它企业也具有一定参考价值.

关键词: 厚板 , 滚切式双边剪 , 剪切质量 , 毛刺 , 错刀

砷对70/30黄铜在1NNaNO_2水溶液中应力腐蚀开裂的抑制作用

罗贤竟 ,

腐蚀科学与防护技术

砷对70/30黄铜在1NNaNO_2水溶液中应力腐蚀开裂的抑制作用罗贤竟,健(上海材料研究所,上海200437)发表于《中国腐蚀与防护学报》,1991;11(1):83.获中国腐蚀与防护学会第三届全国青年腐蚀科技论文讲评会优秀奖罗贤觉,84年毕业于哈尔滨船舶工程学院.现在上海材料研究所从事应力腐蚀方面的工作.砷对70/30黄铜在1NNaNO_2水溶液中应力腐蚀开裂的抑制作用@罗贤竟,健$上海材料研究所....

关键词:

花状微米颗粒的制备及其电流变性能研究

杨惠 , 董旭峰 , 赵红 , 齐民 , 谭锁奎 , 纪松

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.04.018

采用溶剂热法制备出花状微米颗粒。采用SEM,TEM,XRD,FT-IR 等方法分析颗粒形貌及成分。结果表明,花状颗粒为丙三醇基化合物,其表观直径在2~3μm 之间,表面由次级的刺状结构组成。分别以花状微米颗粒和光滑球状 TiO 2颗粒为分散相制备电流变液,并测试其电流变性能和沉降稳定性。实验结果表明,在相同电场强度下,花状颗粒电流变液的剪切屈服强度明显高于光滑球状颗粒电流变液,但漏电流密度远小于光滑球状颗粒电流变液;静置12 d,花状颗粒电流变液的抗沉降率较之光滑球状颗粒电流变液有显著提高。花状颗粒特有的形貌是其具有优异电流变性能和沉降稳定性的主要原因。

关键词: 电流变液 , 溶剂热法 , 花状颗粒 , 刺状结构 , 沉降稳定性

浙江省腐蚀与防护学会成立

中国腐蚀与防护学报

<正> 浙江省腐蚀与防护学会成立大会于1985年3月21~23日在杭州召开,参加大会的有来自全省各地的98名腐蚀与防护领域的科技工作人员。中国腐蚀与防护学会付理事长石声泰和省科协学会部付部长(金双)(金双)到会致词。徐崇嗣付教授代表筹备组作了“浙江省腐蚀与防护学会筹备工作报告”。会上邀请了石声泰、叶康民、曹楚南和宋诗哲等四位专家在大会作学术报告,省内科技人员共有43篇论文参加了分组学术交流。成立大会上选举产生了十七名理事,并且召开了第一届理事会,推选产生了理事会人员:

关键词:

电磁驱动熔体流动与枝晶变形断裂模拟

郭大勇 , 杨院生 , 童文辉

金属学报

建立了电磁离心凝固过程熔体动量传递、传热和传质耦合数学模拟,模拟计算了熔体在不同感应强度下的流动速度。计算结果表明,熔体在电磁力的作用下产生与铸模转动方向相反的流动,流动速度呈周期性分布,并且在凝固前沿达到最大。随着磁感应强度的增加,熔体流动速度达到的最大值也大。使用有限元软件ANSYS,把熔体流动计算结果作为参数,计算了枝晶的受力状态。通过计算表明,熔体流动枝晶会在枝晶周围产生很大的速度变化,流体对枝晶的冲刷可使枝晶产生机械折断。电磁搅拌通过增加断裂枝晶数量促进柱状晶—等轴晶转变.

关键词: 电磁离心铸造 , null

聚合物分散型液晶结构紫外光稳定性分析

蒋圣评 , 李承璋 , 赖威宏 , 赵宏昌 , 陈君维 , 林宗贤 , 洪子圣

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163102.0125

聚合物分散型液晶组件技术是市面上常用的散射式光开关系统,且常常应用于具隐私保护性之电控切换窗户中.然而对于室外的应用,属于有机高分子材料的液晶材料与聚合物结构对于照射紫外光之稳定性与耐受性值得被讨论,尤其是较少被讨论之高分子聚合物结构的影响.本研究主要探讨不同聚合物结构之聚合物分散型液晶组件在紫外光照射下光电特性的变化,期待可以了解聚合物结构特性随曝光时间的变化并提出适当之改善方法.本实验藉由选择具有高紫外光稳定性之主体液晶搭配紫外固化胶调配聚合物分散型液晶预聚物,分别探讨不同固化胶比例与光强度等固化条件下,组件照射紫外光后对于光电特性造成的影响,以此了解各种聚合物形貌照射紫外光后之光电特性变化.实验结果显示,照射紫外光后,各种聚合物分散型液晶组件之临界电压仅仅些微提升,但下降时间剧烈地提高,以聚合物比例35%、固化强度2 mW/cm2为例,临界电压从15.57 V些微提升至18.18 V,下降时间从195.12 ms大幅提升至925.26ms.此外,本研究亦发现相对于照射前,照射紫外光后之组件的下降时间对于电压施加时间长短相当敏感,且此现象可藉由调整固化光强度与固化胶浓度有抑制之趋势.本研究呈现了各种聚合物分散型液晶组件在照射紫外光后光电特性的变化,并了解聚合物结构的特性变化的影响.

关键词: 聚合物分散型液晶组件 , 紫外光稳定性 , 临界电压 , 反应时间

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