阎峰云
,
单巍巍
,
郝远
,
李元东
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2005.01.007
为考查等温处理技术制备半固态成形用MB15镁合金非枝晶锭料的可能性,借助于液淬技术、光学和电子显微分析,研究了MB15镁合金的微观组织和成分演变.结果表明:MB15镁合金在半固态等温热处理过程中能形成晶粒细小、晶粒粗化速度缓慢的球状组织,但其圆整程度低于AZ91D合金.随着温度的升高和保温时间的延长,Zn向晶界扩散速度加快,晶界处的Zn含量逐渐增加,晶内Zr偏析逐渐扩散.冷却时,α-Mg与Zr在晶内富Zn处发生包晶反应,晶界处发生共晶反应和共析反应.
关键词:
镁合金
,
半固态等温热处理
,
非枝晶组织
,
成分演变
,
MB15
赵祖德
,
单巍巍
,
罗守靖
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2007.01.015
给出了液相线模锻法制备ZK60-RE镁合金半固态坯料的实验方法和工艺参数,并研究了该方法制备的ZK60-RE镁合金在半固态等温热处理过程中的微观组织演变.结果表明:利用液相线模锻法可以制备半固态ZK60-RE镁合金坯料,半固态ZK60-RE镁合金坯料在保温时间较短的半固态等温热处理过程中能形成晶粒细小、晶粒粗化速度较为缓慢的球晶组织,晶粒在600℃保温15 min、610℃保温3 min和618℃保温0 min时分别达到最小,最小尺寸分别为35、45、30 μm,能够达到半固态加工实际化生产的较高要求.晶粒在不同的温度下随着保温时间的延长,晶粒的圆整度均逐渐变小,球晶化越来越好.
关键词:
液相线模锻法
,
ZK60-RE镁合金
,
半固态等温热处理
,
微观组织演变
李明德
,
沈根生
金属学报
<正> 单泡(或无泡沫)浮选法是一种在浮选研究领域内广为采用的研究方法。这种方法适用于研究各种浮选药剂(捕收剂、起泡剂和調整剂)对矿物的作用、研究药剂与矿物作用的动力学以及研究各种矿物的可浮性。在研究矿石的可选性时,它也可以用来研究矿物分选的条件。单泡浮选法对于研究具有起泡能力的捕收剂的性貭尤为适用,它可以避
关键词:
王鹏程
,
陈晶
,
陆明
应用化学
doi:10.3724/SP.J.1095.2010.90575
以甲苯、乙苯、异丙苯、叔丁基苯、氟苯等为硝化底物,通过混酸硝化得到这些单取代芳烃转化率最大时的混酸硝化强度φ. 运用密度泛涵理论,在B3LYP/6-311G* *水平上优化了9种单元芳烃的几何构型,计算苯环上C原子电荷分布. 讨论了9种取代基的定位效应,以苯环取代基以外环上C原子总净电荷QRΣC(2～6)表示单取代苯的硝化反应活性与硝化强度φ之间的关系. 实验结果表明,烷基苯、卤苯、硝基苯的硝化反应活性与其混酸硝化转化率达最大时的混酸硝化强度φ呈良好的线性关系.
关键词:
芳烃
,
混酸硝化
,
量子化学计算
,
定位效应
张晶晶
,
范学良
,
蔡小舒
工程热物理学报
本文提出一种基于单帧单曝光图像的气固两相流固相颗粒的速度场测量方法。通过控制相机的单次曝光时间获得流场中颗粒的单帧运动模糊图像，运用分水岭算法分割图像，提取颗粒，由自相关函数获得各颗粒的速度大小和方向，重建二维速度场。利用该方法对玻璃珠在空气中重力沉降的速度测量结果与理论值基本一致，矢量场与颗粒运动轨迹相符，说明该方法可以用于气固两相流速度场的测量。研究发现使用片光源比背光源能够获得更加准确的速度值。
关键词:
气固两相流
,
速度场
,
运动模糊
,
单帧单曝光
李朝毅
,
段涛
,
杨玉山
材料导报
以氨水为催化剂、正硅酸乙酯为硅源、醇为溶剂,采用改进的溶胶-凝胶工艺制备单分散SiO2微球,通过扫描电镜、激光粒度分析仪着重研究了正硅酸乙酯添加方式、反应温度、溶剂类型等单因素对SiO2的颗粒大小和形貌的影响.结果表明,正硅酸水解对醇溶剂是有选择性的,乙醇作为溶剂合成SiO2的单分散性和球形度最好.连续滴定和分步滴定更有利于单分散SiO2微球的形成.水解温度升高,生成的颗粒粒径将运渐增大,最佳反应温度为常温25℃或恒温水浴25～35℃.
关键词:
SiO2
,
单分散
,
微球
,
单因素
陈兵
,
张学学
工程热物理学报
本文在单颗粒脱硫缩核模型的基础上分析了晶粒模型,并指出了原有晶粒模型中的不足之处,分析了晶粒初始孔隙率非均匀的原因,建立了一个初始孔隙率沿半径变化的改进晶粒模型.改进后的非均匀模型考虑到颗粒内部初始孔隙率的非均匀性,分析了非均匀初始孔隙率对脱硫效率和脱硫剂利用率的影响,并给出了初始非均匀孔隙率模型的完整的数学描述.
关键词:
干法脱硫
,
晶粒模型
,
孔隙率
,
数学模型
黄成龙
,
张继成
,
易勇
,
曹磊峰
,
王红斌
材料导报
介绍了单级衍射光栅的应用背景及其基本理论,分析了单级衍射光栅与传统黑白透射光栅的不同之处.阐述了单级衍射光栅的制作技术,分析了以电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术为主的工艺路线的优缺点.综述了X光单级衍射光栅的发展历程以及存在的问题,并指出了其未来的研究方向.
关键词:
X光单级衍射光栅
,
黑白透射光栅
,
电子束光刻
,
X射线光刻
