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在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究

黎午升 , 惠官宝 , 崔承镇 , 大为 , 郭建 , 孙双 , 薛建设

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142904.0544

实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究.用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩膜下2.5 μm等间隔线的光强分布.根据设备参数模拟分析离焦量为15、30 μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后,实际比较测量了相同条件下各自曝光剂量范围和切面坡度角.实验结果表明:相位移掩膜能使镜像投影曝光机分辨力以下间距(线宽)的工艺容限增大1倍,并使相应曝光量下间距(线宽)的分布更集中,从而增加细线化的稳定性.使用相位移掩膜能提高镜像投影曝光机的解像力.

关键词: 相移掩膜 , 等间隔线 , 模拟 , 曝光容限 , 解像力

高分辨率显示用小孔设计技术

曲连杰 , 郭建 , 大为 , 陈旭 , 闵泰烨 , 杨莉

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153002.0246

为了满足市场对显示产品高分辨率的要求,需要从产品的设计和工艺各个方面进行优化,其中过孔尺寸和线宽两个因素对阵列基板分辨率影响最大,本文通过相移掩模技术可以实现对过孔尺寸的精确控制,通过在普通过孔上增加一定厚度和透过率的相移层,并对各种参数下过孔的光透过率进行模拟分析,可以获得不同相移层参数对过孔特性的影响,最后提出一种可以获得稳定微小过孔的方法。结果表明,通过对相移层透过率和宽度的控制,可以获得对曝光光强不敏感的稳定微小过孔,曝光量增大一倍乃至数倍的过程中,过孔尺寸始终保持稳定,提高了工艺容忍度。对于模拟中过孔尺寸可以小于设备的4μm 分辨极限。通过减小过孔尺寸,可以有效提升 TFT 显示产品的开口率,实现产品对高分辨率的要求。

关键词: 薄膜晶体管液晶显示器 , 过孔 , 高分辨率

物理冶金与材料科学发展(英文)

R.W.Cahn

金属学报

本文第一部分评述了目前有关何谓科学史学家的某些概念以及科学家撰写科学是否被认可的情况.第二部分重点放在物理冶金及其衍生的材料科学历史的撰写问题,并概括介绍此领域已发表的工作.

关键词: 物理冶金 , history of materials science. historian of science (technology) , null

物理科学发展的回顾与聚集力学的创建

童景山 , 柯红缨

工程热物理学报

本文简单地阐述了物理科学的发展电,在19世纪末期,物珲科学已经有相当发展,并形成了三个科学分支--研究物体运动,有牛顿力学;研究物质热运动,有热力学和统计力学;研究电磁波和光波,有电动力学,可是,这三种经典力学在20世纪初面临着新的挑战(困难),从而,相应地产生了三种新的基础理论,即狭义相对论,广义相对论;聚集理论,聚集力学;量子理论,量子力学,具体实践表明,它们在解决新的难题方面都取得很大成功.

关键词: 物理科学 , 分子聚集理论 , 聚集力学

金相学史话 (4):合金钢的早期发展

郭可信

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.03.001

Faraday进入皇家学院(Royal Institutio n)后,在1820-1822年间从事包括铜、镍、铬及贵金属在内的合金钢研究,尽管未发展出有实际用途的钢种,也可算是合金钢研究的先驱.1856年转炉炼钢法出现后,钢产量猛增,Mu sh et高碳高钨自淬火刀具钢应运而生(1868),逐渐发展成18\|4\|1高速钢(1906).Hadfield在 1882年研制出高碳高锰奥氏体耐磨钢,成分至今未变.他还研制出硅钢片,并在1903年制出第一台铁损小的变压器.Brearley在1913年研制出低碳高铬(1Cr13)马氏体不锈钢,在这之后,铬镍奥氏体不锈钢才问世.本世纪初汽车工业的兴起,促进了合金结构钢的发展(合金钢牌号前面冠以SAE就是美国汽车工程师学会的缩写),而两次世界大战都伴随有合金钢的产量及品种的大发展.

关键词: 金相 , 历史 , 合金钢

中国古代金属镀工艺初探及其技术理论研究

温靖邦 , 吴元康

电镀与涂饰

列举了古代汉语中有“镀”含义的汉字,概述了鋈白铜、鎏镀金/银等中国古代金属镀工艺的发展历史,分析了相关理论并比较了它们的镀层特征.探究了2件战国时期青铜器的制作过程,以说明热镀锡工艺在中国古代的应用.

关键词: 青铜器 , 鎏镀 , 热镀 , , , , 富锡铜

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