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NaOH处理对石墨烯电学性能的影响

汤春苗 , 陈志蓥 , 朱博 , 张浩然 , 张亚欠 , 曹一江 , 于广辉

材料科学与工程学报

在CVD石墨烯的转移过程中无法避免会出现胶残留,导致了材料不必要的p型掺杂.研究表明,通常来自这种残余胶的p型掺杂影响了石墨烯的电学特性.本文发现NaOH溶液能够有效地去除这种PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯(C5H8O2)x)中的含氧官能团,减少胶残留,并首次将其运用在CVD生长的石墨烯单层薄膜上.通过不同浓度NaOH溶液的选择,我们有效地解决了NaOH与SiO2/Si衬底反应的问题.处理结果显示,通过NaOH溶液浸泡石墨烯的载流子浓度变为原来的三分之一甚至更少,而且处理效果最明显的石墨烯样品的迁移率从880cm2/Vs升高到2260cm2/Vs.同时我们比较了水和NaOH处理效果的稳定性,结果显示用水处理的样品迁移率很快回到了处理前的数据,而用NaOH溶液处理的石墨烯薄膜迁移率最终稳定在原有迁移率的1.5倍.

关键词: 石墨烯 , 迁移率 , PMMA , NaOH

硼乳浊釉在日用陶瓷上的应用探究

吴玉敏 , 张浩然 , 李冠胜 , 黄定国

硅酸盐通报

以长石、高岭土、石英、方解石等天然矿物为主,添加适量氧化锌、硼砂等化工原料制备硼乳浊釉.考察了釉料组成、釉层厚度、烧成温度和保温时间对釉面白度、光泽度和外观的影响.实验表明,制备的硼乳浊釉白度可达85.7,光泽度、硬度和热稳定性能够满足日用陶瓷要求;烧成温度对釉白度影响不大,但保温时间过长会导致釉面趋于透明;施釉工艺是决定硼乳浊釉能否在日用陶瓷上应用的关键因素,釉层厚度小于0.5~0.6 mm时,釉面会出现花釉或趋于透明.

关键词: 硼乳浊釉 , 日用陶瓷 , 应用

共掺Tm3+离子对CaAlSiN3∶Eu2+红色荧光粉发光性能的影响

张浩然 , 王劲 , 雷炳富 , 刘应亮

应用化学 doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2016.11.160326

通过高温固相法,合成了Eu2+单掺和Eu2+、Tm3+共掺CaAlSiN3荧光粉。结合荧光光谱、余辉发射光谱和余辉衰减曲线及热释发光等测试手段对其进行了表征分析。结果表明,CaAlSiN3∶Eu2+具有主峰位于630 nm的明显的红色长余辉发光;共掺杂Tm3+离子的引入,产生了654和800 nm的荧光和余辉,同时,Tm3+的共掺,使CaAlSiN3∶0.1%Eu2+,Tm3+样品位于89.0℃热释光峰位消失,表明 Tm3+共掺杂改变了CaAlSiN3∶Eu2+荧光粉中的陷阱能级及其分布,从而减弱了CaAlSiN3∶Eu2+的630 nm红色可见光部分余辉发光性能。

关键词: CaAlSiN3∶Eu2+ , 稀土共掺杂 , 长余辉发光 , 陷阱

SiO2-B2O3-Al2O3-CaO-ZnO-KNaO-F2系统无铅低温透明釉的研制

吴玉敏 , 李冠胜 , 张浩然 , 黄定国

硅酸盐通报

以B2O3 、CaO、ZnO、KNaO、CaF2为熔剂制备在1120℃左右烧成的无铅透明釉.探究了釉组成中CaO、CaF2、B2O3、Al2O3含量对釉面光泽度、透明度等的影响.结果表明,提高釉中CaO、A12O3含量可以抑制分相,提高釉的透明度,但会产生气泡降低釉的光泽度,用适量CaF2取代CaO可以解决这个问题.制备的透明釉釉面光泽度达102.9,釉面显微硬度、热稳定性能够达到日用陶瓷的标准要求.

关键词: 透明釉 , 低温 , 无铅 , 氧化钙 , 氟化钙

半导体激光器恒温控制器算法的实验仿真研究

艾淑平 , 田小建 , 张浩然

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2008.04.007

半导体激光器的输出波长随着温度而变化,同时,输出功率也会随着温度和使用时间的变化而发生漂移,因此,半导体激光器的恒温控制是极其必要的.根据半导体激光器的温度控制特点,对PID和Fuzzy控制进行理论分析,将SIMULINK2.1与FuzzyLogicTool-Box有机地结合,实现了模糊自整定PID参数控制系统的计算机仿真设计.仿真结果表明,此种方法简单,易于实现.此系统还可以应用在其他小型的温控系统中.

关键词: 激光技术 , 激光二极管 , 恒温控制器 , 模糊控制 , PID控制 , 自整定PID参数 , 计算机仿真

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