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微孔二氧化硅分子筛膜的制备与应用

, 杨建华 , 肖伟 , 沈东 , 周亮 , 鲁金明 , 殷德宏 , 张艳 , 王金渠

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2011.04.010

通过溶胶-凝胶热涂法制备高通量的微孔二氧化硅分子筛膜,并将其应用于渗透蒸发乙酸脱水,评价二氧化硅分子筛膜的分离性能;利用粒度分析仪和SEM对溶胶和膜层进行表征.结果表明,溶胶中二氧化硅颗粒的直径为10~80 nm,无定形微孔二氧化硅分子筛膜对该体系显示了优异的分离性能,在353 K时渗透蒸发分离水质量分数为5%的乙酸水溶液时,通量为0.65 kg/(m2·h),分离系数达到120,经过35 h的渗透蒸发实验后分离系数增高到160左右,通量基本不变为0.60 kg/(m2·h).

关键词: 溶胶-凝胶法 , 二氧化硅 , 热涂法 , 乙酸脱水 , 渗透蒸发

钝化层沉积工艺对过孔尺寸减小的研究

, 谢振宇 , 张文余 , 阎长江 , 徐少颖 , 陈旭 , 闵泰烨 , 苏顺康

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122704.0493

为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,研究了通过改变钝化层(PVX)的沉积工艺来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极与漏极的过孔 (VIA)尺寸的方案,通过设计实验考察了影响过孔大小的钝化层的主要影响因素(黑点、倒角、顶层钝化层沉积厚度,顶层钝化层沉积压力),得出了在不改变原有刻蚀方式基础之上使过孔的尺寸降低20%~30%的优化方案,并对其进行了电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、Mobility:迁移率),从而获得了较佳的减小过孔尺寸的方案,提高了产品品质.

关键词: 钝化层 , 刻蚀 , 过孔

有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响

, 谢振宇 , , 阎长江 , 徐少颖 , 陈旭 , 闵泰烨

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0720

TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的过孔发黑(黑点)问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源层刻蚀工艺所导致的,并有针对性地进行了试验设计,分别考察了有源层刻蚀条件、附加一步刻蚀方式对黑点不良的解决效果,根据实验效果附加一步刻蚀方式完美地解决了黑点不良问题,从而将产品的良率提升了3%~4%,而电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、迁移率)和正常条件相比没有异常,从而获得了最终完美的解决该不良的方案,提高了产品品质.

关键词: 有源层 , 刻蚀 , 黑点

液相氧化-低温煅烧脱除Silicalite-1膜模板剂及其性能研究

沈东 , 杨建华 , 肖伟 , , 鲁金明 , 王金渠

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2011.01.010

采用原位生长法在管状大孔α-Al2O3载体外表面上合成致密连续Silicalite-1沸石膜,利用双氧水和稀硝酸混合液液相氧化-低温煅烧方法脱除Silicalite-1沸石膜的模板剂,并用扫描电镜(SEM)、气体渗透测试,渗透蒸发(PV)等表征手段对沸石膜的性能进行评价.结果表明所制备的Silicalite-1膜表面晶粒交互生长,致密,连续,膜的厚度约为10 μm.在293K,0.1 MPa压差条件下,N2的渗透速率为8.16×10-7mol/(m2·s·Pa),N2/i-C4H10理想分离系数为达到425.在428 K下,CO2/N2的理想分离系数为2.89.在333 K下,渗透蒸发分离5%乙醇/水混合液,乙醇/水的分离系数αA/W达到40.3,通量J为0.83 kg/(m2·h).

关键词: Silicalite-1沸石膜 , 液相氧化 , 渗透蒸发 , 气体渗透

过孔刻蚀工艺优化对过孔尺寸减小的研究

, 陈旭 , 谢振宇 , 徐少颖 , 闵泰烨 , 张学智

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142905.0674

为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,之前做过钝化层沉积工艺优化来减小液晶面板阵列工艺中连接像素电极与漏极的过孔尺寸的研究.本文在此基础上进行过孔刻蚀工艺的优化,从而最终达到进一步减小过孔尺寸实现TFT-LCD小型化与窄边框化的趋势.通过设计实验考察了影响过孔大小刻蚀主要影响因素(功率、压强、气体比率、刻蚀速率选择比).实验结果表明,在薄膜沉积优化的基础上可使过孔的尺寸再降低10%~20%.对其进行了良率检测与工艺稳定性评价,最终获得了过孔尺寸减小的方案,并成功导入到产品生产中,从而提高了产品品质.

关键词: 钝化层 , 刻蚀 , 过孔

玲珑金矿金矿成矿地质背景特征研究

戴立新 , 宿晓静 , 马德云 , 尹波

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2007.11.002

通过研究前人关于玲珑金矿的大量科研文献,从地层和岩浆岩的成时代、控矿构造特征,系统地分析了玲珑金矿内金矿产出的地质背景,指出了玲珑金矿内的找矿方向,为东山矿床深部探、找矿方案设计提供了基础依据.

关键词: 玲珑金矿 , 成矿地质背景特征 , 成矿靶区预测

《金属学报》纪念薰奖金基金简章

金属学报

<正> 一、为纪念薰创办和主编《金属学报》,继承并发扬他毕生致力于科技进步的业绩,特设立《金属学报》纪念薰奖金基金.二、基金来源是乐于赞助的科研单位、高等院校、企业、团体的捐赠.基金属于专款,全部存入银行,每年支取利息,直接用于奖励.

关键词:

口方法在钕铁硼品质分析中的应用

戎利军 , 培忠 , 陈大力 , 李红 , 贾海军

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2009.05.016

介绍了口方法在钕铁硼生产品质分析中的应用方法,并应用口方法对钕铁硼产品厚度偏差问题提出了新的解决思路和解决方案.

关键词: 口方法 , 钕铁硼 , 厚度偏差 , 品质分析

深切悼念本刊创刊人、主编薰同志

金属学报

<正> 1983年3月20日凌晨,《金属学报》的创刊人、主编薰同志和我们永别了。 薰同志1913年11月20日出生于湖南省邵阳县。1937年以优异成绩通过湖南省试,留学英国Sheffield大学,先后获得哲学博士和冶金学的科学博士学位。1950年受中国科学院郭沫若院长聘,翌年毅然回归祖国。历任中国科学院金属研究所所长,中国科学院

关键词:

"口方法"在吸波涂料中的应用

高焕方

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2005.04.025

应用"口方法"的优化设计思想,针对吸波涂料柔韧性差、附着力低的不足及其特点.通过系统设计及参数设计详细地介绍了"口方法"在吸波涂料中的应用,通过大量实验研制了一种柔韧性好、附着力高的吸波涂料.

关键词: "口方法" , 吸波涂料 , 优化设计

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