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退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响

, 苏凤莲 , 周圣明 , 宋学平 , 刘艳美 , 李爱侠 , 尹平 , 孙兆奇

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.050

采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响.X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高.室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射.在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰.空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射.实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不同,通过改变退火时的温度和氧气气氛可以改变ZnO薄膜的微结构和发光性质.

关键词: ZnO薄膜 , 磁控溅射 , X射线衍射 , 光致发光

硫酸钠在浮法玻璃生产中的应用及作用机理研究进展

孟政 , 姜宏 , , 黄幼榕 , 王晋珍 , 崔竹 , 李长久

材料科学与工程学报

在浮法玻璃生产中硫酸钠通常与还原剂一起作为澄清剂使用。研究硫酸盐在玻璃生产过程中的反应机理对探索玻璃形成与澄清机理、提高浮法玻璃质量具有重要意义。本文综述了近年来对硫酸盐在玻璃熔窑和锡槽中的研究进展。首先论述了硫酸钠在玻璃熔化、澄清过程中的物理化学变化和澄清机理,包括硫酸盐与碳的反应和气泡形成长大和收缩过程;其次讨论了玻璃熔体进入锡槽后,由于气氛的改变及残余硫酸钠价态的变化,以及对玻璃上下表面和锡液的影响。

关键词: 浮法玻璃 , 硫化合物 , 澄清 , 气泡 , 锡槽

LaCl3对硝态氮供应下小麦根系生长的影响

江华波 , 王盛锋 , 高丽丽 , 陈磊 , 黄金生 , 乙引 ,

中国稀土学报 doi:10.11785/S1000-4343.20130416

选择石麦15、衡观35两个品种小麦为供试作物,进行营养液培养,研究不同浓度硝态氮供应下Ca2+通道阻断剂LaCl3对小麦苗期根系形态特征的影响.结果表明:添加Ca2+通道阻断剂LaCl3后,3种浓度硝态氮处理的小麦根系初生根长度、侧根长度、根系总长度、侧根平均长度均较不添加LaCl3处理显著变短;直径(>0.45 mm)范围内根系所占比例增加.不施用硝态氮条件下,与不添加LaCl3处理相比,LaCl3处理对小麦植株地上部NO3-含量变化不大,但一级侧根数量明显减少,2.5和50.0 mmol·L-1硝态氮施用时,LaCl3处理侧根分布密度增加,衡观35较石麦15更明显.结论初步认为:Ca2+通道阻断剂LaCl3施用,影响小麦根系生长发育:根系伸长受抑,根系变粗,若施用硝态氮,侧根数量分布增加.

关键词: 小麦 , 硝态氮 , 根系 , Ca2+通道 , LaCl3

射频磁控溅射法制备TiO2-xNx薄膜的结构性能研究

冯磊 , 罗士雨 , 黄涛华 , 林辉 , 滕浩 , , 周圣明

人工晶体学报

利用射频磁控溅射法室温下在Si(100)衬底上制备了N掺杂的TiO2薄膜,并且采用x射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和透射光谱对薄膜进行了表征.XRD结果表明在纯Ar和N2(33.3%)/Ar气氛下制备的TiO2-xNx薄膜均为单一的金红石相,薄膜结晶性良好,呈高度(211)择优取向,而在N2(50.0%)/Ar下制备的薄膜结晶性明显变差;对于N掺杂的TiO2薄膜,XPS表明部分N原子进入TiO2晶格,并且以N-Ti-O、N-O键以及间隙式N原子形式存在;透射光谱表明掺N后的TiO2薄膜吸收边发生了红移.

关键词: TiO2 , 射频磁控溅射 , 氮掺杂 , X射线光电子能谱

Al2O3衬底上生长ZnO薄膜的结构和光学特性

, 苏凤莲 , 宋学平 , 刘艳美 , 李爱侠 , 周圣明 , 孙兆奇

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.02.022

用脉冲激光沉积法在Al2O3(0001)衬底上沉积了ZnO薄膜.衬底温度分别为300℃、400℃、500℃、600℃和700℃.利用X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构和光学性能进行研究.X射线衍射的结果表明在不同温度下生长的ZnO薄膜均具有高度c轴择优取向,衬底温度400℃时,膜的应力较小质量较高.ZnO薄膜有很强的紫外发光峰,紫外发光峰的强度与衬底温度密切相关,并发现当衬底温度从300℃增到400℃时,紫外发射峰出现6nm的蓝移.

关键词: ZnO薄膜 , 脉冲激光沉积 , X射线衍射 , 光致发光谱

非晶硅薄膜制备及其晶化特性研究

罗士雨 , 冯磊 , , 林辉 , 滕浩 , 黄涛华 , 周圣明

人工晶体学报

用磁控溅射法在K9玻璃上沉积了非晶硅(a-Si)膜和a-Si/Al膜,并将其在流动的N2气氛下进行退火.对退火前后的样品进行Raman光谱、XRD和SEM表征和分析.Raman光谱表明随着退火温度的升高,a-Si膜的散射峰出现了明显的蓝移,但XRD结果表明薄膜仍为非晶态;而a-Si/Al膜在温度很低时就已经开始晶化.

关键词: 磁控溅射 , 非晶硅 , 多晶硅

镀膜玻璃多角度反射色测量

杨幼然 , 余刚 , 王永斌 ,

材料科学与工程学报

准确测量多角度下镀膜玻璃反射色,是镀膜玻璃质控提出的新要求。本文比较了不同入射角度下使用分光光度计测得的反射光谱曲线与使用TFCalc软件计算的玻面理论反射光谱曲线,发现随着入射角度增加,分光光度计检测器接收的光信号由玻璃的多次反射光逐渐转变为仅有第一次反射光,导致测量光谱与人眼接收的实际光谱不符,给颜色计算带来偏差。利用椭偏仪分别测量了玻璃第一、二次反射对应的反射光谱曲线,提出将第一、二次反射光谱曲线对应做和后进行颜色计算的新方法。

关键词: 镀膜玻璃 , 颜色测量 , 多角度测量

可钢化单银low-E镀膜玻璃的耐热性能

王永斌 , 孙震 , 余刚 , 杨幼然 , 郭明 ,

材料科学与工程学报

低辐射(Low-E)镀膜玻璃膜层的热稳定性对可钢化产品质量影响很大,在Low-E镀膜玻璃的钢化工艺中,由于加热温度过高或加热时间过长,可能会造成一些缺陷,如弯曲,波形,脱膜,色差,麻点等。本文用马弗炉对相同膜系的可钢化单银low-E玻璃进行了不同加热温度、不同保温时间下的耐热实验;通过观察外观变化,测试颜色变化、色差,及其方块电阻、E值、透过率、雾度等随温度和保温时间的变化关系,研究了相同膜系结构的可钢低辐射镀膜玻璃的耐热性能;为产品膜系结构设计,质量风险评估提供参考。

关键词: 可钢低辐射玻璃 , 热稳定性 , low-E耐热性能

Si(111)衬底上ZnO薄膜的磁控溅射法制备及表征

, 周圣明 , 宋学平 , 刘艳美 , 李爱侠

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.021

采用磁控溅射法在(111)单晶硅衬底上沉积了ZnO薄膜,并研究了退火温度对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小、应力和光致发光谱的影响.X射线衍射(XRD)表明薄膜为高度c轴择优取向.不同退火温度下的ZnO薄膜应力有明显变化,应力分布最为均匀的退火温度为500℃.室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,可观测到明显的紫光发射(波长为380nm左右).实验结果表明,用磁控溅射法在单晶硅衬底上能获得高质量的ZnO薄膜.

关键词: ZnO薄膜 , 磁控溅射 , X射线衍射 , 应力 , 光致发光

溅射工艺对D/M/D结构中SiNx介质膜光学常数的影响

孙瑶 ,

航空材料学报 doi:10.11868/j.issn.1005-5053.2015.4.005

采用射频反应溅射制备SiNx薄膜,作为以Ag膜为功能层的D/M/D结构透明导电膜中的电介质膜,并研究射频功率、气压以及N2流量对SiNx薄膜光学常数的影响.结果表明,SiNx薄膜具有非晶态结构,光学常数在300~ 2500nm波长范围内符合正常色散关系.椭偏测试及Cauchy模型拟合结果表明,折射率随功率、气压以及N2流量升高而降低,SiNx光学常数最佳的工艺条件为功率300W,气压0.16Pa,N2与Ar流量比例1∶1,此时薄膜折射率为2.02,消光系数为0,最接近具有化学计量比的Si3N4薄膜的光学常数.按此工艺制备的SiNx膜在优化厚度为44nm的条件下作为20nm厚度Ag膜的电介质膜,当只有表面SiNx膜时,Ag膜透光率由29.17%提高至55.01%,当Ag膜上下均制备SiNx膜时,透光率进一步提高至66.12%.

关键词: SiNx膜 , Ag膜 , 折射率 , 椭偏仪 , 透光率

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