王掩刚
,
牛楠
,
任思源
,
赵龙波
工程热物理学报
以NASARotor35为研究对象，应用数值模拟手段深入分析了该转子在近失速工况的流动特征，针对其叶片吸力面附面层分离和上端壁处严重的二次流动，对比研究了叶表抽吸和上端壁抽吸对该转子流场结构以及气动性能的影响。计算结果表明：两种抽吸形式均使压气机的压比和效率有所提高。叶表抽吸可有效控制叶片通道激波，减小叶片吸力面的分离区，其最佳位置位于通道激波之后附面层发展处，在最佳抽吸量时压比提高了1．85％，效率提高了8．53％。上端壁抽吸有效地改善了近端壁区域的进出口气流角，其最佳位置位于叶片近前缘处，在最佳抽吸量时压比提高了0．86％，效率提高了4．54％。
关键词:
跨音速压气机
,
附面层抽吸
,
抽吸位置
,
抽吸量
王掩刚
,
刘波
,
管继伟
,
马昌友
工程热物理学报
通过双时间步求解三维非定常N-S方程,获取多级压气机内部非定常流场细节,为深刻认识多级、逆压环境下叶轮机内部非定常流动特征,进而提高其性能提供有益参考,分析结果表明:动/静叶排相干对下游静子叶片表面压力分布影响随着半径增大而增大;当上游尾迹输运至下游叶片通道时,低能量气流团将会充分与主流掺混,可能导致损失增加,当上游尾迹区域输运至下游静子前缘时,对应的叶栅通道低马赫数区域相对较小;由于下游静子叶片的位势作用,其对上游转子叶片尾缘流动结构产生较大影响,随着流面半径增大,下游叶片对上游流场的位势作用愈明显,非定常分离流动形式差别愈大.
关键词:
多级压气机
,
非定常流
,
动/静相干
,
尾迹
张约品
,
阮昊
,
沈德芳
,
干福熹
功能材料
磁控反应溅射制备了AgOx掩膜,用聚焦激光热效应装置测得的光透过特性,分析了AgOx掩膜的开关性能.结果表明,AgOx掩膜在较低的温度作用下有良好的开关性能,反应AgOx Ag+O2可逆,适用于LSC-super-RENS光盘.用X-ray和TEM分析了热处理后的AgOx薄膜的成分结构,表明200℃热处理AgOx掩膜存在纳米量级Ag颗粒.
关键词:
AgOx
,
反应溅射
,
掩膜
邵新勋
,
狄国庆
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.01.009
采用掩膜方法制备了栅极型薄膜电感,并测试了这些薄膜电感的电感值和品质因数( Q值)在 100MHz- 10GHz范围的频谱特性.在此频率范围内,两种样品的电感值显示了平稳的频率特性,其 数值分别为 130 nH, 155nH;电阻在 6GHz以下也保持平稳,分别为 31Ω, 51Ω, 在这个频率以上,由 于高频趋肤效应而有一定的增大; Q值在 1- 6GHz之间在 20 以上, 并且在 6GHz附近分别达到最 大值 160和 110.在 100MHz- 10GHz范围内 ,这些电学参量的频谱特性符合实际应用的需要.
关键词:
薄膜电感
,
栅极型
,
磁控溅射
,
品质因数
胡万里
耐火材料
doi:10.3969/j.issn.1001-1935.2010.01.023
介绍了利用组态王作为监控,可编程控制器作为下位机,实现了耐火厂散料配料系统的自动化生产,该系统具有手动功能和自动功能,手动功能具有现场手动和上位机手动功能,自动功能具有全自动和半自动功能.该系统可实现配方和配料制度的任意更改,投资低,故障少,自动化程度高.
关键词:
组态王
,
配料
,
上位机
孙振
,
竹有章
,
何星
,
杨成莱
,
李磐石
材料科学与工程学报
针对目前由金属开口谐振环与金属杆构成的左手材料结构存在构造比较复杂、工艺实现较难的缺点,设计实现了一种基于金属条的改进结构一”王”字型结构.通过理论分析和电磁仿真软件Ansoft HFSS 10模拟仿真,利用散射参量法提取参数结果表明该结构可以在X波段实现介电常数和磁导率同时为负.讨论研究了该左手结构的金属条宽度、中间缺口宽度、中间条宽度三个结构尺寸参数变化对谐振频率和透射峰幅值的影响,结果表明三个参数的变化都会对二者产生影响,其中金属条宽度改变对透射峰值影响幅度相对较大,缺口宽度改变对谐振频率影响幅度相对较大.
关键词:
金属条
,
左手材料
,
负折射率
,
谐振频率
,
S参数
邓琛
,
徐晨
,
徐丽华
,
邹德恕
,
蒋文静
,
戴天明
,
李晓波
,
沈光地
高分子材料科学与工程
利用高分子共混物的微相分离和白组装原理,采用溶液共混和旋转涂膜的方法制得聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯(PS/PMMA)高分子共混物薄膜,对薄膜经过再加工得到具有纳米微孔的PMMA薄膜,研究了对溶液进行超声处理的时间、PS/PMMA共混物溶液浓度、旋涂转速和试片表面对掩膜形貌的影响.以此PMMA薄膜为掩膜对GaP表面进行湿法腐蚀,得到一种蜂窝状的表面微结构,它能使发光二极管(LED)的光功率平均提高18%.
关键词:
高分子
,
自组装
,
微结构
,
发光二极管
胡华超
,
魏冰妍
,
胡伟
,
陆延青
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20132802.0199
利用基于数控微镜阵芯片的微投影光刻系统将任意设定的图形投影到SD1取向涂层上,约束SD1分子的排列方向,进而控制液晶的区域取向.该动态掩膜光刻系统可用于液晶取向的任意图形制备和偏振控制,实际分辨率达到了5 μm.基于SD1材料的可擦写特性,实现了不同一/二维码间的光控转换,并实现了任意灰度的分区控制.上述器件均可在外场作用下实现开关或调谐.该动态掩膜光刻技术可方便地实现实时、复杂的液晶图形取向控制,在信息显示与识别及可调光子学器件等方面有着广阔的应用前景.
关键词:
DMD
,
液晶
,
光取向
,
二维码
,
灰度
