邓凡政
,
石影
,
张芙蓉
,
刘延美
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1999.04.005
研究了La(Ⅲ)、U(Ⅵ)等金属离子在聚乙二醇2000(PEG)-硫酸钠-偶氮氯膦Ⅲ (CPAⅢ) 双水相体系中的萃取行为及存在形态.结果表明,在pH 4.0~6.5的HAc-NaAc缓冲溶液中,La(Ⅲ)、U(Ⅵ)几乎被PEG相全部萃取,而Co(Ⅱ)基本上不被萃取,可实现La(Ⅲ)与Co(Ⅱ)及U(Ⅵ)与Co(Ⅱ)混合离子的定量分离.经吸收光谱、摩尔比、连续浓度变换法、加入表面活性剂等试验表明,在萃取相中La(Ⅲ)、U(Ⅵ)与偶氮氯膦Ⅲ是以1∶2的络阴离子形式存在的.
关键词:
聚乙二醇
,
偶氮氯膦Ⅲ
,
镧
,
铀
,
钴
邓凡政
,
石影
,
江玉波
,
闫华
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2001.06.017
利用聚乙二醇 2000-硫酸铵-偶氮胂Ⅲ双水相体系,以偶氮胂Ⅲ为萃取剂,研究了 Zr(Ⅳ)和 Ti(Ⅳ)的萃取行为.在pH=6.5 时,通过加入掩蔽剂的方法,实现了 Ti(Ⅳ) 与 Zr(Ⅳ) 的萃取分离,同时探讨了高聚物相对金属离子及萃取剂的萃取机理.
关键词:
钛
,
锆
,
分离
,
双水相体系
蔡红
,
许秀丽
,
朱军
,
石影
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2003.02.012
研究了在聚乙二醇-2000(PEG)-硫酸铵-偶氮胂Ⅰ体系中Th(Ⅳ),U(Ⅵ),La(Ⅲ),V(Ⅴ)的萃取行为. 结果表明,在pH 1.0~5.0溶液中,Th(Ⅳ)可被PEG相几乎完全萃取,Mo(Ⅵ)部分被萃取,而La(Ⅲ),U(Ⅵ),V(Ⅴ)则不被萃取,从而实现了Th(Ⅳ)与U(Ⅵ),La(Ⅲ),V(Ⅴ)混合离子间的定量分离. 通过吸收光谱和络合比的测定,研究了PEG相中试剂及络合物的存在形态.
关键词:
化学反应工程
,
聚乙二醇
,
偶氮胂Ⅰ
,
萃取
,
分离
石影
,
邓凡政
,
董环文
冶金分析
doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2000.05.002
研究了偶氮胂Ⅲ(ArsenazoⅢ)作萃取剂和显色剂,在聚乙二醇(PEG)-(NH4)2SO4-ArsenazoⅢ体系中的非有机溶剂萃取光度法测定锆.将络合物从0.25mol/L HCl水溶液中萃取到PEG相,其最大吸收波长位于660nm,ε=1.90×104和1.70×104.Zr的线性范围为0~3.0μg/mL和3.0~5.0μg/mL,锆与ArsenazoⅢ的配位比为1:2.方法用于镁锌合金及铝合金中锆的测定,获得满意结果.
关键词:
锆
,
萃取光度法
,
聚乙二醇
,
偶氮胂Ⅲ
卓馨
,
蔡红
,
石影
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.04.032
研究了邻苯二酚紫(PV)作为萃取剂和显色剂在聚乙二醇-2000(PEG)-Na2SO4-PV体系中非有机溶剂萃取光度法测定铍.将PV-Be(Ⅱ)配合物从pH=3.5的溶液中萃取到PEG相,其最大吸收波长位于591 nm,ε=1.25×105.Be(Ⅱ)的线性范围为0.0~2.5 μg·ml-1,Be(Ⅱ)与PV的配合比为1:2.将所建立的高灵敏度测定Be(Ⅱ)的方法用于铜合金样品分析,准确度较高.
关键词:
铍
,
邻苯二酚紫
,
萃取光度法
,
非有机溶剂
,
聚乙二醇
蔡红
,
张春丽
,
石影
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.02.022
研究了亚硝基R盐(nitroso R salt)作为萃取剂和显色剂, 在聚乙二醇(PEG)-nitroso R salt-(NH4)2SO4体系中的非有机溶剂萃取光度法测定镍.将nitroso R salt-Ni(Ⅱ)配合物从pH 5.8(Hac-NaAc缓冲溶液)的溶液中萃取至PEG相, 其最大吸收波长位于490 nm, 摩尔吸光系数为1.40×104 L·mol-1·cm-1, Ni(Ⅱ)的线性范围为0~30 μg·ml-1, Ni(Ⅱ)与nitroso R salt的配合比为1∶3.此方法用于铝合金中镍的测定, 获得满意结果.
关键词:
镍
,
亚硝基R盐
,
萃取光度法
,
非有机溶剂
艾雨
,
蒋学兵
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153004.0566
通过对大量残影不良样品进行分析,找到了残影不良产生的原因,并基于分析结果设计了改善残影的实验.通过分析发现:残影不良产生的原因是彩膜侧像素与黑矩阵之间的段差过大,在摩擦工程时段差过大区域形成了摩擦弱区,摩擦弱区内的液晶分子配向较弱,导致不良产生.为降低残影不良进行实验,结果显示:在彩膜侧加覆盖层可以有效降低残影不良的发生率,但不适用于量产;通过采用高预倾角的配向膜材料,同时控制配向膜工程到摩擦工程的时间,可使残影不良发生率由28.2%降低至0.2%,为企业的稳定高效生产奠定了基础.
关键词:
残影
,
扭曲向列型
,
预倾角
,
面板
李铭
,
卢彦飞
,
袁刚
,
吴中毅
,
张涛
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153006.1032
针对 CT 系统在实际应用中出现的金属伪影问题,提出一种基于先验插值的金属伪影校正算法。文中通过预滤波、骨骼分割和软组织恢复步骤计算先验图像,并利用先验图像的正向投影对原始投影中的金属投影区进行插值校正。应用该算法对数值仿真图像和临床 CT 图像分别进行了校正重建实验。数值仿真实验表明,用提出算法校正的结果比线性插值金属伪影校正算法、归一化金属伪影校正算法校正的结果更接近理想体模。临床数据实验表明:该算法的重建结果有效抑制了金属伪影,清晰重建出金属边缘细节,极大地提高了重建图像的质量。
关键词:
金属伪影
,
先验图像
,
预滤波
,
软组织恢复
范恒亮
,
汤展峰
,
刘利萍
,
李静
,
黄静
,
刘岩龙
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20163103.0270
影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大.本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析.发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影,实验得出配向膜膜厚高于110 nm,摩擦强度高于5.5N,m时无残影发生.通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5h,摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10 h,并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场,从而降低残影.通过以上措施,对于15.6HD产品,良率提升了10%,为企业高效生产奠定基础.
关键词:
残影
,
扭曲向列型
,
配向弱区
,
内部电场