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HfO2膜料中的杂质对薄膜损伤及性能的影响

吴师岗 , , 易葵 , 赵元安 , 范正修

稀有金属材料与工程

通过对HfO2膜料中杂质元素的分析,找出了影响薄膜性能的主要杂质元素.结果表明:金属元素、吸收性介质元素的存在对薄膜的损毁有很大负面影响;在紫外波段,Zr元素含量大的薄膜吸收较大;并且提出负离子元素在膜料蒸发过程中形成气源中心,产生喷溅,从而使薄膜的损伤阈值降低.

关键词: HfO2膜料 , 杂质 , 金属 , 吸收性介质 , Zr元素 , 负离子元素

大口径镀膜机均匀性的研究

董磊 , 方明 , 易葵 , 范瑞瑛 , , 范正修

功能材料

对于大口径镀膜机的均匀性特性进行了研究,得到了一组厚度分布曲线,并对曲线进行了分析;利用这些实验结果,运用新理论设计出了具有实用性的修正挡板,均匀性可稳定的达到3‰.

关键词: 薄膜 , 均匀性 , 修正挡板

Co和Cu薄膜电学特性和连续性特征的判据

范平 , 易葵 , , 齐红基 , 范正修

中国有色金属学报

采用离子束溅射沉积了不同厚度的Co膜和Cu膜,利用四电极法测量了薄膜的电阻率,从而得到了Co膜和Cu膜的电导率随薄膜厚度的变化关系. 实验结果表明,Co膜和Cu膜的电学特性都具有明显的尺寸效应. 比较了同时考虑表面散射和晶界散射的电导理论得到的电导率公式与实验结果,不同薄膜厚度电导率的理论结果与实验结果符合较好. 提出了厚度作为金属薄膜生长从不连续膜进入连续膜的一个特征判据, 并利用原子力显微镜(AFM)观测了膜厚在特征厚度附近的Co膜和Cu膜的表面形貌.

关键词: Co薄膜 , Cu薄膜 , 金属材料 , 电学特性

单晶硅材料的1064nm Nd:YAG脉冲激光损伤特性研究

高卫东 , 田光磊 , 范正修 ,

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.03.002

作为微电子和光电子系统中普遍使用的一种结构材料,单晶硅一直是人们研究的焦点.长期以来,人们对其电学性质进行了非常深入细致的研究,却疏于对其抗击强激光辐照特性的研究.随着激光通讯和光电对抗技术的发展,对光学材料的激光破坏特性和加固技术进行研究的需求也显得越来越迫切.本文主要对单晶硅的抗激光损伤特性进行研究,研究了单晶硅材料在1064nm Nd:YAG激光自由脉冲输出模式和单脉冲输出模式作用下的损伤特性,通过对两种激光作用下单晶硅损伤形貌的分析,在热效应与热力耦合模型的基础上,对单晶硅的激光损伤机制进行了探索.

关键词: 激光损伤 , 单晶硅 , 单脉冲激光 , 自由振荡激光

双折射雕塑薄膜的研究进展

王素梅 , 王建国 , 付小勇 , 范正修 , 贺洪波 ,

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.02.024

倾斜沉积技术制备的雕塑薄膜是一种新型的、具有各向异性结构的薄膜材料.根据基片旋转方式的不同,可得到螺旋状、S形状、C形状、弯曲柱状等不同结构的薄膜,并且出现了晶体中的双折射现象.雕塑薄膜可以实现各向同性薄膜无法实现的光学性质,为光学薄膜的设计与制备开辟了新的途径.本文综述了雕塑薄膜的制备方法,分析了雕塑薄膜的微结构与双折射特性,并阐述了其在光学领域内的应用潜力.

关键词: 雕塑薄膜 , 倾斜沉积 , 双折射 , 各向异性

薄膜厚度对HfO2薄膜残余应力的影响

申雁鸣 , 贺洪波 , 淑英 , 范正修 ,

稀有金属材料与工程

HfO2薄膜是用电子束蒸发方法制备的,利用ZYGO干涉仪测量了基片镀膜前后曲率半径的变化,计算了薄膜应力.对样品进行了XRD测试,讨论了膜厚对薄膜残余应力的影响.结果发现不同厚度HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随薄膜厚度的增加而减小,当薄膜厚度达到一定值后,应力值趋于稳定.从微观结构变化对实验结果进行了分析,发现微结构演变引起的本征应力变化是引起薄膜残余应力改变的主要因素.

关键词: HfO2薄膜 , 残余应力 , 膜厚 , 电子束蒸发

倾斜沉积制备雕塑薄膜的研究进展

肖秀娣 , 董国平 , 余华 , 范正修 , 贺洪波 ,

稀有金属材料与工程

倾斜沉积是一种新型的薄膜沉积技术.通过制备过程中基片的旋转和倾斜,可以制备出斜柱状、之字形、螺旋状、S形以及C形等各种形状的雕塑薄膜.雕塑薄膜可以实现许多传统薄膜无法实现的光学性质,为光学薄膜的设计与制备开辟了新的途径.本文综述了雕塑薄膜的制备方法,分析了雕塑薄膜的结构特征及影响因素,并阐述了其在光学领域的广泛应用前景.

关键词: 倾斜沉积 , 雕塑薄膜 , 各向异性

Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响

秦俊岭 , 易葵 ,

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.02.001

用磁控溅射法制备了Mo/Si薄膜,用AFM和XRD分别研究了Mo原子的溅射能量不同时,Mo/Si薄膜表面形貌和晶相的变化.通过比较发现,随着Mo原子溅射能量的增大,Mo/Si薄膜表面粗糙度增加,Mo和Si的特征X射线衍射峰也越来越强,并且Mo膜层和Si膜层之间生成了MoSi2.Mo原子的溅射能量是诱导非晶Si结晶和MoSi2生成的主要原因.

关键词: Mo/Si , MoSi2 , 溅射能量

在短脉冲激光作用下薄膜的损伤机制

夏志林 , , 范正修

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2006.06.005

计算了不同材料的能带带隙、初始电子密度、激光波长和激光脉宽等参数对薄膜的抗激光损伤阈值的影响,研究了在不同脉冲宽度激光作用下多光子离化和雪崩离化两种损伤机制的竞争.结果表明,在以平均电子能量不变为特征的雪崩电离的建立期间,光电离速度影响初始电子的浓度,从而影响雪崩电离和光电离之间的竞争.激光脉冲的宽度越大,雪崩电离对电子发展的贡献越大,而多光子离化的贡献越小.

关键词: 材料科学基础学科 , 薄膜 , 激光诱导损伤 , 联合损伤机制 , 损伤阈值

Al2O3和Cr过渡层对Ag膜光学性质及其附着力的影响

孙喜莲 , 范正修 ,

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2007.03.016

研究了在玻璃基底上镀制Al2O3和Cr过渡层对Ag膜反射率及附着力的影响.分光光度计测试了Ag膜的反射率,结果表明,与Cr过渡层相比,Al2O3过渡层对Ag膜反射率的降低相对较小;而且,随着Al2O3厚度的增加,Ag膜的反射率先增大后减小.XRD与AES测试表明,引入Al2O3或Cr可明显细化Ag晶粒,减弱Ag膜(111)织构;Al2O3作过渡层时,Al原子向Ag层中扩散显著;而Cr作过渡层时,只有少量Cr原子扩散进入Ag层.因此,Al2O3作过渡层能显著增强薄膜与玻璃基体之间的附着力.

关键词: Ag膜 , Al2O3过渡层 , Cr过渡层 , 光学性质 , 附着力

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