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电子束快退火法制备MgB2薄膜及性质研究

戴倩 , 孔祥东 , 冯庆荣 , , 张怀 , 杨倩倩 , 聂瑞娟 , 王福仁

低温物理学报

利用电子束快退火法制备了MgB2超导薄膜.该方法利用高能电子束,在中真空条件下照射Mg-B多层前驱膜,照射时间维持在1s以下.在电子束的作用下,前驱膜中的Mg和B迅速反应,形成MgB2相.整个退火过程没有Mg蒸气与氩气保护,极短的退火时间有效地限制了前驱膜中Mg的流失和Mg与其它物质的反应.与传统制备工艺相比,该方法避免了混合物理化学气相沉积法中乙硼烷的使用;省去异位退火法中提供高Mg蒸气压的限制,避免在有Mg块存在情况下退火后样品表面存在Mg污染的问题.利用该方法在SiC(001)衬底上生长了100nm厚的MgB2薄膜,其超导转变温度Tc~35K,均方根粗糙度为3.6nm,临界电流密度Jc(5K,0 T) =3.8×106 A/cm2.该方法对MgB2薄膜的大规模工业生产提供了一个新思路.

关键词: 电子束退火 , MgB2 , 超导薄膜

陶瓷先驱体聚硅氮烷(PSZ)加入Si、MoSi2填料制备石墨抗氧化复合涂层的研究

刘洪丽 , 赵雪莲 , 田春英 , , 李婧 , 邱柏棽 , 万仟

人工晶体学报

采用陶瓷先驱体聚硅氮烷(PSZ)为主要原料,并加入Si、MoSi2填料,于石墨表面制备高温抗氧化涂层.借助扫描电镜和X射线衍射仪等分析手段对复合涂层的微观结构和相组成进行表征,并对涂层的抗氧化性能进行了初步研究.结果表明,涂层厚度约为30μm,内层为化学结合的SiC-Si过渡层,外层为MoSi2-SiC-SiCN氧阻挡层,涂层表面较为平整、致密,与过渡层结合紧密.涂层试样抗氧化效果与氧化温度有关,当氧化温度为1200℃时,抗氧化能力较差,氧化失重率约为10.98%,当氧化温度高于1300℃时,高温封填剂的作用发挥充分,抗氧化性能显著提高,氧化失重率仅为1.15%.

关键词: 石墨 , 聚硅氮烷 , 先驱体转化法 , 抗氧化涂层 , 复合涂层

活性填料对聚硼硅氮烷制备不锈钢陶瓷涂层性能的影响

赵雪莲 , 刘洪丽 , 扈世有 , , 李国遵 , 邱柏棽

人工晶体学报

采用陶瓷先驱体聚合物聚硼硅氮烷(PBSZ)为原料,并加入B4C粉填料以及Al粉活性填料,制备耐高温不锈钢材料的陶瓷涂层.研究了在氮气条件下所获得涂层的性能和微观形貌以及填料对涂层性能的影响.利用TG-DTA、XRD分析了先驱体的裂解过程及产物物相,并用SEM对涂层微观结构及成分进行了分析.结果表明,Al粉的加入,促进了聚硼硅氮烷的裂解,减少了涂层的体积收缩,从而有效地提高了涂层与基体的粘结强度.在1000℃氮气条件下,涂层材料主要为Al4C3,AlN,SiC,B4C,Al等相.在适当的工艺条件下,所获得的陶瓷涂层韧性良好,且具有较好的抗氧化性.微观研究表明,陶瓷涂层最佳厚度约为50 μm,涂层表面均匀、致密,与不锈钢基体之间结合良好.

关键词: 陶瓷涂层 , 聚硼硅氮烷 , 纳米铝粉 , 抗氧化性

Zr基大块非晶喷射电解腐蚀特征的研究

白英良 , 张海峰 , 贺连龙 ,

稀有金属材料与工程

利用透射电子显微镜(TEM)及场发射电镜纳米尺度成分分析技术(EDS分析)研究块状非晶Zr_(70)Cu_8Ti_7Ni_(15)喷射电解腐蚀特征.结果表明:在喷射电解腐蚀过程中,非晶内少量纳米级别的晶体相对于块状非晶基体较容易被腐蚀破坏.此外,经高氯酸乙醇溶液电解腐蚀后非晶中明显存在一些特殊非晶区域,其中含有大量非晶态氧化物,Ni大量流失,这些区域的形成是由于Cl离子点蚀引起的.

关键词: Zr基块状非晶 , 腐蚀 , 透射电子显微镜 , 氧化物

基于磁控溅射法显微CT W-Al透射靶材的制备及其性能研究

马玉田 , 刘俊标 , 霍荣岭 , , 牛耕

金属学报 doi:10.11900/0412.1961.2015.00147

根据端窗透射Micro-CT靶材的理论模型设计了W-Al透射靶材的基本结构,结合Geant4计算模拟软件和Müller的靶温升计算模型分别确定了W靶面和Al基体的厚度.以YXLON光机的W-Al透射靶材结构参数为依据,采用磁控溅射法在Al基体表面分别制备了厚度为2,5和8μm的W薄膜,并借助SEM进行微观形貌分析,得到了致密度和均匀度均较好的W薄膜靶面.借助YXLON的X射线管,对3种不同厚度靶材的X射线出射率及其对应所需功率进行了实验研究,结果表明:W靶面的最佳厚度是5 μm,此时,靶材的X射线出射率最大且产生X射线所需的功率最小.在此基础上,进行了X射线出射率和X射线成像效果的对比实验,结果表明:无论在X射线出射率及其所需功率方面,还是在X射线成像效果方面,W靶面厚度为5 μm的W-Al透射靶材的性能均优于YXLON W-Al透射靶材,能够满足Micro-CT所需的高质量靶材的应用要求.

关键词: 显微计算机断层成像 , 磁控溅射 , 透射靶材 , W薄膜

扫描探针显微镜研究弛豫铁电体电畴生长

刘希 , 周和平 , 张孝文 , , 陈皓明

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.1999.06.028

本文研究了典型弛豫铁电陶瓷0.9PMN-0.1PT中的电畴生长过程. 用扫描探针显微镜的轻敲模式和抬举模式对驰豫铁电陶瓷的表面形貌和电场力像进行了观察. 结果表明, 在施加不同针尖电压(0.05、0.5、1V)的情况下, 能够诱导材料中纳米尺度极化微区通过沿<111>方向180反转, 从而形成亚微米尺度电畴.

关键词: 扫描探针显微镜 , 电畴 , 驰豫铁电体

微纳米尺度下聚酰亚胺薄膜表面电荷生成规律研究

赵慧斌 ,

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.04.018

为进一步研究工业中对聚酰亚胺取向膜基板进行摩擦取向处理时,在取向膜上产生静电残留,影响液晶分子取向的均匀性的问题,文章利用Dimension 3100型扫描探针显微镜(SPM)在聚酰亚胺表面摩擦产生了微纳米尺度的电荷,并对表面电荷的生成规律进行了研究.当SPM的导电探针在聚酰亚胺表面进行加工或摩擦操作时,会在探针与薄膜接触区域产生电荷,生成的电荷可以用静电力显微镜(EFM)进行观察.讨论了生成电荷的极性、数量、区域大小与摩擦过程中探针加工速度,所加电压大小、正负之间的关系,为在微观尺度探索聚酰亚胺表面电荷生成规律及生成机理提供了一种新的途径.

关键词: 聚酰亚胺 , 表面电荷 , 扫描探针显微镜 , 静电力显微镜

电子束退火法制备ZnO薄膜

李艳丽 , 许壮 , 李辉 , 孔祥东 , , 张雪娜

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.02.009

利用溶胶一凝胶法制备出ZnO的凝胶前驱膜,用电子束退火取代传统炉子退火,对前驱膜进行后处理,退火时固定电子束加速电压为10 kV,退火时间为5 min,调节聚焦束流和电子束束流,使退火温度在600~900℃范围内变化.扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和压电力显微镜(PFM)的测试结果表明,运用电子束退火法可制备出晶粒尺寸小于30nm、沿(002)择优取向、具有压电效应的六方ZnO薄膜,且随着退火温度的升高,晶粒尺寸逐渐变大,薄膜的结晶性和取向变好,压电效应越来越明显.

关键词: 电子束 , 退火 , 溶胶-凝胶 , ZnO , 薄膜

基于静电力显微镜的绝缘体表面电荷微纳米尺度测量系统

赵慧斌 , , 王秀凤

绝缘材料 doi:10.3969/j.issn.1009-9239.2007.02.022

基于静电力显微镜(EFM)设计了一套在微纳米尺度下观察研究电介质表面电荷的系统.该系统设有温度和湿度调节系统,可实现不同气体环境,并可模拟紫外照射功能.该系统为电介质表面电荷的研究提供了一种新的手段,为从微观尺度解释表面电荷的生成和行为特性提供了新的途径.

关键词: 扫描探针显微镜 , SPM , 绝缘材料 , 表面电荷测量

扫描热显微镜测量机理的研究

阮修林 , , 顾毓沁

工程热物理学报

从理论上分析了扫描热显微镜的传热过程和测量原理,建立了两种工作模式下的热阻网络模型,并对热阻网络中各热阻进行了具体分析,得出了样品本身热阻的表达式;用多种参考材料样品进行了系列实验,结果表明仪器的输出信号与热导率的倒数成线性关系,对理论分析作出了部分验证,为亚微米尺度的热导率测试打下了基础.

关键词: 扫描热显微镜 , 热阻 , 热导率

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