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一种铸造铝合金的四浸锌直接镀铜工艺

腐蚀与防护 doi:10.11973/fsyfh-201602012

针对铸造铝合金的成分和性能特点,设计了四浸锌工艺,用于铸造铝合金的镀前处理.采用加热试验法检测镀层的附着力;使用扫描电镜和X射线衍射仪对镀层的表面形貌和相结构进行了分析.结果表明:随着浸锌时间的延长,四浸锌层越来越致密,浸锌60~90 s可满足铸造铝合金镀前处理要求;经过四浸锌处理后的镀铜层具有较好的附着力;XRD分析显示镀铜层为多晶结构;焦磷酸盐镀铜层表面比较粗糙,存在较多孔隙;进行硫酸盐镀铜处理后,表面更为平整,针孔缺陷得到有效抑制.

关键词: 铸造铝合金 , 浸锌 , 电镀

改性金刚石膜的形貌、结构和附着性能

, 邱万奇 , 罗承萍 , 彩娥

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2006.01.033

为了提高金刚石膜/基附着力,通过氧辅助使高温钨丝蒸发,在基底表面与碳氢基团反应生成纳米碳化钨,从而得到金刚石和纳米碳化钨混合的改性金刚石膜.用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和压痕法研究了改性金刚石膜的形貌、结构和附着力性能.结果表明,碳钨化合物以纳米相存在于改性金刚石膜中.碳钨化合物的存在使改性金刚石膜的硬度下降,但是适当的碳钨化合物能使膜/基附着力性能得到较大提高.当氧气通入量为1.2sccm时,膜/基附着力性能最好.

关键词: 改性金剐石膜 , 化学气相沉积 , 碳钨化合物 , 附着力性能 , 氧气

CVD金刚石薄膜晶粒尺寸对热导率的影响

, 刘正义 , 瞿全炎 , 丘万奇

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2001.04.009

用直流等离子喷射法,以甲烷、氢和氩气的混合气体为原料,在钼基体上合成了较高质量的CVD金刚石薄膜.对该薄膜的生长面及其背面的晶粒尺寸进行了研究,指出其-般规律,进一步探讨了CVD金刚石薄膜的晶粒尺寸对其热导率的影响规律.

关键词: 金刚石 , 薄膜 , 晶粒尺寸 , 热导率

CVD金刚石的晶体形态及界面位向关系

, 刘宏伟 , 邱万奇 , 罗承萍 , 陈灵

材料导报

综述了CVD金刚石的晶体形态及界面位向关系.用SEM观察CVD金刚石晶粒形态主要有立方体、长方体、八面体、立方八面体、孪晶八面体、十面体和二十面体颗粒以及球形金刚石,讨论了晶粒的形成条件.用TEM观察则主要有单晶体、孪晶八面体和五重孪晶体形态.界面位向关系主要有:Si(001)//Diamond(001),Si<110>//Diamond<110(50078018);Si(111)//Diamond(111),Si<110>//Diamond<110>和Si(110)//Diamond(110),Si[110]//Diamond[111].

关键词: 金刚石 , 晶体形态 , 界面位向

退火处理对Al3CoCrCu1/2FeMoNiTi高熵合金激光涂层组织和性能的影响

, 温立哲

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.07.027

目的:研究Al3CoCrCu1/2FeMoNiTi高熵合金涂层的退火时效硬化及其强化机理。方法使用激光熔覆设备,在40Cr钢上制备了Al3CoCrCu1/2FeMoNiTi高熵合金涂层,对涂层进行了退火处理。使用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和显微硬度计对涂层进行了分析。结果涂覆态涂层为BCC单相结构,经300℃和500℃退火,涂层仍然为BCC单相;700℃退火后,涂层析出了NiTi金属间化合物相;900℃退火后,涂层由FCC相及NiTi金属间化合物组成。涂覆态和经300~700℃退火的涂层为胞粒状,经900℃退火后,涂层为板条状。经300℃退火,涂层硬度下降,但超过300℃退火,硬度比涂覆态的高。700℃退火合金硬度达到最大值924HV。退火温度升到900℃后,硬度比700℃退火的低。NiTi析出相促进了硬度提高,位错强化机制能较好解释该高熵合金的固溶强化现象。结论 Al3CoCrCu1/2FeMoNiTi合金涂层具有明显的时效硬化效应,700℃退火可获得最佳的时效硬化效果。

关键词: 高熵合金 , 退火 , 激光熔覆 , 时效硬化 , 硬度 , 固溶强化 , 位错

导电聚甲醛/炭黑复合材料的制备及其表面直接电镀铜

宋波 ,

电镀与涂饰

利用双螺杆挤出机制备了聚甲醛(POM)/炭黑导电复合材料,研究了导电填料炭黑及抗静电剂聚乙二醇600油酸酯的含量对复合材料表面电阻率、拉伸强度和冲击强度的影响.当炭黑的用量为20%,抗静电剂聚乙二醇600油酸酯用量为6%时,所制备的导电POM/炭黑复合材料的拉伸强度为34.2 MPa,冲击强度为7.3 kJ/m2,表面电阻率为100 Ω.在其表面直接电镀铜,所得铜镀层均匀、致密,与基体有良好的结合力.

关键词: 聚甲醛 , 炭黑 , 复合物 , 抗静电剂 , 导电性 , 电镀铜 , 结合力

Al2CoCrCu1/2FeMoNiTi高熵合金粉末制备及其性能研究

温立哲 ,

金属功能材料 doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2016019

使用高能球磨机械合金化方法,制取Al2CoCrCu1/2FeMoNiTi高熵合金粉末,用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、显微硬度计等对合金粉末进行了分析.结果表明,随着机械合金化时间的延长,金属元素高角度衍射峰先消失,接着低角度衍射峰矮化直至消失,最后出现新相的衍射峰.元素的合金化过程与熔点有关,熔点高的铬、镍合金化过程最慢.球磨1h,粉末结块较严重.球磨时间超过24 h后,粉末颗粒比较均匀,约5μm.合金熔点在1 350~1 400℃范围,最大硬度值为80HV0.025.

关键词: 高熵合金 , 机械合金化 , 球磨 , 粉末

CVD金刚石薄膜二次形核机制的研究

, 刘正义 , 邱万奇

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2001.01.012

根据实验观察分析提出了金刚石二次形核机制,此机制认为二次形核很容易在(100)晶面上和晶界上形成。通过比较(100)面的二次形核和形成新生长台阶的系统自由能差,可知当气氛中的碳氢基团浓度较大时,粘附在基底的碳氢基团发生堆集,如果堆集碳氢基团高度尺寸较大时将形成二次晶核。也对晶界二次形核的系统自由能差进行了推导,结果表明晶界二次形核是自发的,将导致体系自由能的下降。

关键词: 金刚石 , 二次形核 , 生长台阶 , 碳氢基团

钢渗铬沉积金刚石膜的研究

, 邱万奇 , 罗承萍

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.01.018

用热解CVD装置研究了甲烷浓度、基底温度、室压对钢渗铬沉积金刚石膜的影响.结果表明,甲烷浓度越低,沉积得到的金刚石膜的晶形越好,甲烷浓度超过0.8%后,金刚石的形貌呈"菜花状";基体温度高时,难于在渗铬层上形成连续的金刚石膜,但基体温度高所得的晶形较好;室压越高,金刚石的形核密度越高,但随室压的升高,金刚石的形貌变差.菜花状金刚石膜是由大量二次晶核长大的微晶金刚石晶粒组成,含有较多的非金刚石碳相.

关键词: 金刚石 , 化学气相沉积 , 渗铬层

AlCoCrCu0.5 NiFe高熵合金氧化物薄膜光学特性的研究

, 蔡铭洪 , 叶均蔚

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.02.020

目的:制备AlCoCrCu0.5 NiFe高熵合金氧化物薄膜,并对其光学性能进行表征。方法使用磁控溅射设备在单晶硅片和玻璃上制备AlCoCrCu0.5 NiFe高熵合金氧化物薄膜,并对膜进行退火处理。使用椭圆偏振光谱仪对薄膜的光学特性进行分析。结果随着氧含量的增加,折射系数减小。当光波长为633 nm时,折射系数为1.69~2.40。当氧分压为10%,折射率色散曲线在475 nm和600 nm处出现拐点,在600 nm之后折射率随着波长的增大而逐渐减小。当氧分压为30%时,折射率曲线在500 nm和600 nm处出现拐点,在600 nm后折射率趋于稳定。当氧分压为50%时,折射率曲线在525 nm处出现拐点,之后折射率随波长的增大而逐渐增大。在450~550 nm波段内,AlCoCrCu0.5 FeNi氧化物薄膜的吸收系数随氧分压的增加而增加。在550~850 nm波段内,薄膜的吸收系数随工作气压的变化趋势不明显。随着氧分压的增加膜的颜色逐渐变深。经过退火处理后,膜的颜色进一步加深。在相同工艺参数的情况下,氧的分压增加,膜厚减小。结论适当减小氧分压,能获得具有高折射率的AlCoCrCu0.5 FeNi氧化物薄膜。不同的分压下,AlCoCrCu0.5 FeNi氧化物薄膜的吸收系数随波长的增加均存在一个拐点,并且随氧分压的增加,拐点的波长减小。氧含量增加导致氧化物薄膜厚度减小,颜色加深。

关键词: 高熵合金 , 氧化物 , 薄膜 , 折射率 , 吸收系数 , 膜厚

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