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High-k材料研究进展与存在的问题

杨雪娜 , 王弘 , 张寅 , 姚伟峰 , 尚淑霞 , 周静涛 , 刘延辉

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.008

随着集成电路的飞速发展,SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求,需要一种新型High-k材料来代替传统的SiO2,这就要综合考虑以下几个方面问题:(1)介电常数和势垒高度;(2)热稳定性;(3)薄膜形态;(4)界面质量;(5)与Si基栅兼容;(6)工艺兼容性;(7)可靠性.本文综述了几类High-k栅介质材料的研究现状及存在的问题.目前任何一种有望替代SiO2的栅介质材料都不能完全满足上述几点要求.但是,科学工作者们已经发现了几种有希望的High-k候选材料.

关键词: High-k材料 , MOSFET , 栅介质 , 薄膜

纳米晶体光催化剂降解染料废水的最新研究进展

周静涛 , 王弘 , 黄伯标 , 许效红 , 姚伟峰 , 张寅 , 杨雪娜

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.009

本文综述了近期光催化降解染料废水的研究进展,从光催化剂、反应条件、光降解反应产物及光催化降解染料废水的应用性四个方面介绍了其研究现状, 指出今后的研究方向将集中在新型光催化剂的开发及光催化剂表面改性、光催化体系、光催化降解染料的反应机理及光催化剂与其它水处理技术的结合.

关键词: 光催化 , 染料 , TiO2

微米级石英空心小球表面TiO2薄膜的制备及其降解性能的研究

姚伟峰 , 王弘 , 黄柏标 , 许效红 , 杨雪娜 , 周静涛 , 尚淑霞

功能材料

在粒径大小为57~74μm之间的石英空心小球表面成功的镀上一层TiO2薄膜.XRD显示600℃退火时TiO2薄膜结晶性能较好,退火700℃以上开始出现金红石相.镀TiO2薄膜石英空心小球较好的解决了TiO2纳米粉在溶液光降解中易出现的团聚问题.小球衬底的粒径较大,有利于解决TiO2粉状催化剂易出现的难以回收再利用的问题.利用对甲基橙的光降解试验来评估薄膜的催化降解性能,结果表明镀膜小球的光催化性能比TiO2纳米粉的光催化性能要好.

关键词: 石英空心球 , 二氧化钛 , 光降解

光催化材料的最新研究进展

周静涛 , 王弘 , 黄柏标 , 许效红 , 姚伟峰 , 张寅 , 杨雪娜 ,

功能材料

综述了最近几年TiO2改性的研究,简要介绍了其他光催化材料的研究进展,并结合本课题组的工作,介绍了对一种新型光催化材料Bi-Ti-O系列材料研究的最新进展.指出:今后光催化材料的发展方向仍以TiO2改性的研究为主导;以钛酸铋(Bi4Ti3O12、Bi12TiO20)为代表的新型光催化材料,有着催化效率高,低能隙等突出的优点,有着广阔的应用前景.

关键词: 光催化材料 , TiO2 , 钛酸铋

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