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离子束增强沉积Si_3N_4/Si多层红外干涉滤波薄膜

江炳尧 , 张福民 , 孙义林 , 陈酉善 , 柳襄怀

材料研究学报

利用离子束增强沉积工艺,在硅基片上制备Si3N4/Si多层红外干涉滤波薄膜结果表明,N2+N的辅助轰击对于合成接近化学配比的Si3N4薄膜起了关键作用薄膜的折射率可达1.74～1.84实验测得的多层滤波薄膜的红外反射谱与理论值相当接近

关键词: 红外干涉滤波膜 , Ion Beam Laboratory