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钛掺杂三氧化钨薄膜结构与电致变色性能研究

彭明栋 , 章俞之 , 宋力昕 , 尹小富 , 王盼盼 , 吴岭南 , 胡行方

无机材料学报 doi:10.15541/jim20160312

通过射频溅射法,常温下制备了纯相WO3和Ti掺杂WO3薄膜,采用XRD、SEM、Raman、电化学工作站、紫外–可见–近红外分光光度计等对薄膜的微观结构、循环稳定性、光学性能进行了表征和分析.研究发现:钛掺杂对WO3薄膜的表面形貌和光学常数影响不明显,但使薄膜的晶化温度升高.电化学测试结果表明,Ti掺杂可以提高离子在薄膜中注入/抽出的可逆性,提高薄膜的循环稳定性,同时薄膜的响应速度和光学调制性能也得到提高,掺杂后薄膜着色态和漂白态的响应时间分别由9.8、3.5 s减小为8.4、2.7 s,因此Ti掺杂WO3薄膜具有更好的电致变色性能.

关键词: 电致变色 , 钛掺杂 , 氧化钨薄膜 , 结构

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