张贤楠
,
刘思润
,
谢娟
,
张宪民
金属功能材料
doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2015087
采用磁控溅射方法制备了单晶Fe3O4超薄膜,系统研究了厚度(3～30 nm)对薄膜磁性的影响.X射线衍射证明了Fe3O4单晶薄膜是(220)晶向,(220)衍射峰的半高全宽和晶格常数随薄膜厚度的下降而增大.磁性测量观察到了清晰的磁滞回线,饱和磁化强度达400×103 A/m.低温电阻率测量证实了薄膜在120 K温度附近发生了导体向绝缘体的Verwey转变.利用原子力显微镜观察到Fe3O4薄膜的表面粗糙度非常低,适用于纳米尺度自旋电子学器件的开发.
关键词:
Fe3O4
,
磁性薄膜
,
单晶薄膜
,
磁控溅射
,
Verwey转变
